[实用新型]一种配向膜制备装置

说明书

本实用新型涉及微电子器件制备技术领域，公开一种配向膜制备装置，包括真空室、基板、第一蒸发机构和第二蒸发机构，第一蒸发机构和第二蒸发机构分别用于产生第一气体和第二气体，还包括第一喷头和第二喷头，其中多个第一喷头均匀分布在基板的上方，第一喷头能够将第一气体喷射至基板的顶面上；多个第二喷头均匀分布在基板的上方，第二喷头能够将第二气体喷射至基板的顶面上并与第一气体混合形成配向膜的前驱体。本实用新型提供的配向膜制备装置，可以使第一气体和第二气体定向地喷射在基板的顶面上并沉积，提高了沉积效率；另外，可以对整个基板的顶面进行全面且均匀地喷射，从而保证了配向膜厚度的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及微电子器件制备技术领域，尤其涉及一种配向膜制备装置。

背景技术

在制备液晶显示器时，通常利用配向膜使液晶按照一定顺序规则排列，目前主要利用聚酰亚胺薄膜作为配向膜。制备配向膜时，可以采用气相沉积方法，气相沉积方法如下：在真空室中利用蒸发机构将二酐和二胺蒸发，而蒸发后的二酐和二胺气体将在基板上沉积形成聚酰胺酸薄膜，即配向膜的前驱体，然后对聚酰胺酸薄膜进行高温脱水环化即可形成聚酰亚胺薄膜，即配向膜。但是，在现有的配向膜制备装置中，多采用自由沉积的方式，即二酐和二胺在真空室中自由蒸发，并自由沉积在基板上，而此种沉积方式不仅沉积速度慢，沉积效率低，而且由于基板中心和边部与蒸发气体接触的难易程度不同，所以容易导致基板中心和边部薄膜的厚度不同，从而导致配向膜的厚度均匀性较差。因此，亟需一种新型的配向膜制备装置以解决上述技术问题。

实用新型内容

基于以上所述，本实用新型的目的在于提供一种配向膜制备装置，以解决现有装置中存在的沉积效率低、配向膜的厚度均匀性差等技术问题。

为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种配向膜制备装置，包括真空室以及设置在所述真空室内的基板、第一蒸发机构和第二蒸发机构，所述第一蒸发机构用于受热产生第一气体，所述第二蒸发机构用于受热产生第二气体，还包括：

第一喷头，与所述第一蒸发机构连通，多个所述第一喷头均匀分布在所述基板的上方，用于将所述第一气体喷射至所述基板的顶面上；

第二喷头，与所述第二蒸发机构连通，多个所述第二喷头均匀分布在所述基板的上方，用于将所述第二气体喷射至所述基板的顶面上并与所述第一气体混合形成所述配向膜的前驱体。

进一步地，所述第一气体为二酐气体，所述第二气体为二胺气体，所述前驱体为聚酰胺酸薄膜，所述配向膜为聚酰亚胺薄膜。

进一步地，所述第一喷头喷射到所述基板的区域与所述第二喷头喷射到所述基板的区域至少部分重叠。

进一步地，所述第一喷头与所述第二喷头沿所述基板的长度方向交替排列，和/或所述第一喷头与所述第二喷头沿所述基板的宽度方向交替排列。

进一步地，还包括第一输送机构，所述第一输送机构包括第一输送管，所述第一输送管的一端与所述第一蒸发机构连通，另一端与所述第一喷头连通。

进一步地，所述第一输送机构还包括第一增压器，所述第一增压器设置在所述第一输送管上。

进一步地，所述第一输送机构还包括第一收集罩，所述第一收集罩能够收集所述第一蒸发机构产生的所述第一气体并将所述第一气体输送至所述第一输送管中。

进一步地，还包括第二输送机构，所述第二输送机构包括第二输送管，所述第二输送管的一端与所述第二蒸发机构连通，另一端与所述第二喷头连通。

进一步地，所述第二输送机构还包括第二增压器，所述第二增压器设置在所述第二输送管上。

进一步地，还包括加热器，用于加热所述基板以将所述前驱体脱水环化形成所述配向膜。

本实用新型的有益效果为：