[实用新型]刻蚀液气泡改善装置及浓度测量系统

说明书

本实用新型提供一种刻蚀液气泡改善装置及浓度测量系统。刻蚀液气泡改善装置包括采样泵、增压泵和第一流量调节阀，所述增压泵设置在所述采样泵的出口端，所述增压泵的出口端设有回流管路和浓度测量管路，所述第一流量调节阀设置在所述回流管路上。本实用新型通过增压泵和第一流量调节阀的设置，提高了气泡排出的效率，同时极大的降低刻蚀液浓度测量管路中的气泡含量，使得刻蚀液的浓度的测量和控制更加精准。

技术领域

本实用新型涉及薄膜晶体管液晶显示器制备工艺技术领域，尤其涉及一种刻蚀液的气泡改善装置及浓度测量系统。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，以下简称TFT-LCD)制备中，采用湿式刻蚀工艺刻蚀金属薄膜层是核心工艺，刻蚀液大多数为强酸混合物(硝酸、磷酸等)，其浓度直接影响金属(铜)薄膜层刻蚀的品质与良品率。

现有技术中，一般利用分光光度法进行刻蚀液浓度的测定，即通过测定刻蚀液在特定波长处或一定波长范围内光的吸光度或发光强度，确定刻蚀液中各物质的含量和浓度，刻蚀液中的气泡会影响光的吸收强度，从而降低刻蚀液浓度的测量精度，即测量出的酸的浓度会比实际值偏低或偏高，造成补酸系统补酸过多或者不足，最终使得刻蚀液中酸的浓度偏大或偏小，从而造成刻蚀不良，给生产造成重大损失。

TFT-LCD制备中采用的刻蚀液含有过氧化氢和硝酸，金属薄膜层中的铜刻蚀液反应产生的气泡会直接影响刻蚀液浓度测量的准确性。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种刻蚀液气泡改善装置及浓度测量系统，旨在去除刻蚀液中气泡，使得刻蚀液的浓度的测量和控制更加精准。

本实用新型的第一方面提供了一种刻蚀液气泡改善装置，包括采样泵，还包括增压泵和第一流量调节阀，所述增压泵设置在所述采样泵的出口端，所述增压泵的出口端设有回流管路和浓度测量管路，所述第一流量调节阀设置在所述回流管路上。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述增压泵与所述采样泵之间设有第二流量调节阀。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述回流管路的通径小于所述浓度测量管路的通径。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述回流管路的压力小于所述浓度测量管路的压力。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述浓度测量管路上设有流量计。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述流量计为浮子流量计。

如上所述的刻蚀液气泡改善装置，可选地，所述浓度测量管路上设有第三流量调节阀。

本实用新型提供的刻蚀液气泡改善装置，通过设置增压泵增加管路中的压力，提高刻蚀液中的气泡的排出效率，通过回流管路上的第一流量调节阀的设置，可以按照目标要求调节回流管路及浓度测量管路上的流量大小，一方面避免流量过大影响测量精度，另一方使浓度测量管路的压力大于回流管路的压力，方便气泡从回流管路中排出，有效的避免气泡进入浓度测量管路。本实用新型通过增压泵和第一流量调节阀的设置，提高了气泡排出的效率，同时极大的降低浓度测量管路中的气泡含量，使得刻蚀液的浓度的测量和控制更加精准。

本实用新型第二方面提供了一种刻蚀液浓度测量系统，包括如上述任一项所述的刻蚀液气泡改善装置。

如上所述的刻蚀液浓度测量系统，可选地，还包括位于所述浓度测量管路上的冷却装置，所述冷却装置设置在所述增压泵的出口端。

如上所述的刻蚀液浓度测量系统，可选地，还包括多个刻蚀液储存罐，多个所述刻蚀液储存罐通过独立的泵送管道分别与所述采样泵连接。