[发明专利]一种半导体型MoS2在审

专利信息
申请号: 201911381364.8 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111146006A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 成家洪;王玮;许鹏;刘天宇;孙潇楠;张金涛;苏扬;柏寄荣 申请(专利权)人: 常州工学院
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;H01G9/042
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 杨静文
地址: 213032 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 mos base sub
【说明书】:

发明公开了一种半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料的制备方法。包括:(1)制备半导体型MoS2电极;(2)配制十六烷基溴化铵的乙腈溶液;(3)组装电化学反应装置;(4)通电进行电化学反应;(5)电化学反应后,将半导体型MoS2移入有机溶剂,得混合液;(6)将混合液超声处理后分离,取分离后上清液,得半导体型MoS2量子点的有机溶液;(7)将TiO2纳米棒阵列样品置于半导体型MoS2量子点的有机溶液中并超声处理,然后升温热处理,得半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料。本发明的制备方法简单、便于工业生产,具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明涉及纳米材料制备技术领域,具体涉及一种半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料的制备方法。

背景技术

近年来,光催化剂在环境治理、消毒杀菌等领域被广泛研究。TiO2材料具有良好的稳定性、无毒,且其具有优异的光催化特性,因此被广泛地用作光催化剂。但TiO2材料的能带隙较宽约为3.0-3.2eV,因而光谱响应范围较窄,仅能吸收紫外光区波段,所以对太阳光的利用率较低。

另一方面,半导体型MoS2材料的能带隙较窄约为1.2-1.9eV,且MoS2量子点具有非常大的比表面积和极高的表面原子比,在电子、光电子器件和催化在内的多个领域都有潜在应用,备受研究者关注。在实际应用中,复合结构材料往往可以同时具备各单组分材料的特性,不仅性能上能够形成互补作用,而且还衍生出新的协同功能。因此,构建MoS2量子点和TiO2复合纳米材料有望在光电催化领域得到了广泛应用。为此,本发明提出一种实验条件较为温和,半导体型MoS2量子点和TiO2复合纳米材料的制备方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种简单、便于工业生产的半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料的制备方法。

本发明是通过如下技术方案实现的:

一种半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料的制备方法,包括如下步骤:

(1)以半导体型MoS2粉体为原料、玻璃为衬底,制备半导体型MoS2电极;

(2)配制十六烷基溴化铵的乙腈溶液;

(3)以半导体型MoS2电极为阴极,以十六烷基溴化铵的乙腈溶液为电解液,以碳棒电极为阳极,组装电化学反应装置;

(4)对电化学反应装置通电,进行电化学反应;

(5)电化学反应后,将阴极上的半导体型MoS2移入有机溶剂中,得到混合液;

(6)将混合液超声处理,然后离心分离,取分离后的上清液,得到半导体型MoS2量子点的有机溶液;

(7)将TiO2纳米棒阵列样品置于半导体型MoS2量子点的有机溶液中并超声处理,取出样品后,进行升温热处理,即得到半导体型MoS2量子点修饰的TiO2纳米棒阵列复合材料。

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