[发明专利]一种清洗刻蚀系统在审

专利信息
申请号: 201911367094.5 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN111081609A 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 潘浩 申请(专利权)人: 西安奕斯伟硅片技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710065 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 刻蚀 系统
【权利要求书】:

1.一种清洗刻蚀系统,其特征在于,包括清洗刻蚀液供给装置、清洗刻蚀槽和溢流装置,所述清洗刻蚀液供给装置的出液端连接所述清洗刻蚀槽的入液端,所述溢流装置的出液端连接所述清洗刻蚀液供给装置的入液端,其中,

所述清洗刻蚀液供给装置用于将经过加热且均匀分布有气泡的清洗刻蚀液传输至所述清洗刻蚀槽中;

所述清洗刻蚀槽用于利用所述清洗刻蚀液供给装置提供的所述清洗刻蚀液对待清洗刻蚀原料进行刻蚀清洗;

所述溢流装置用于将所述清洗刻蚀槽溢流出的所述清洗刻蚀液传输至所述清洗刻蚀液供给装置中。

2.根据权利要求1所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述清洗刻蚀液供给装置包括供液装置、供液泵和气泡发生器,所述供液装置的出液端通过所述供液泵连接所述气泡发生器的入液端,所述气泡发生器的出液端连接所述清洗刻蚀槽的入液端,其中,

所述供液装置用于对所述清洗刻蚀液进行加热,并将经过加热的所述清洗刻蚀液通过供液泵传输至所述气泡发生器中;

所述气泡发生器用于向经过加热的所述清洗刻蚀液中充入均匀分布的气泡,并将经过加热且均匀分布有所述气泡的所述清洗刻蚀液传输至所述清洗刻蚀槽中。

3.根据权利要求2所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述供液装置包括热液供应装置、水浴管和供液槽,所述水浴管设置在所述供液槽中,所述热液供应装置的出液端连接所述水浴管的入液端,所述水浴管的出液端连接所述热液供应装置的入液端,所述供液槽的出液端通过所述供液泵连接所述气泡发生器的入液端,其中,

所述热液供应装置用于对液体加热,并将经过加热的所述液体传输至所述水浴管中;

所述水浴管用于通过所述水浴管中的液体对所述供液槽中的所述清洗刻蚀液进行加热,并将所述液体回传至所述热液供应装置中;

所述供液槽用于储存所述清洗刻蚀液,并将经过加热的所述清洗刻蚀液通过所述供液泵传输至所述气泡发生器中。

4.根据权利要求3所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述热液供应装置包括加热装置和液体槽,所述加热装置设置在所述液体槽中,且所述液体槽的出液端连接所述水浴管的入液端,所述液体槽的入液端连接所述水浴管的出液端。

5.根据权利要求4所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,在所述液体槽中的所述液体中还添加有酸碱指示剂。

6.根据权利要求2、3、4或5任一项所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述气泡发生器的出液端包括第一出液端部和第二出液端部,所述气泡发生器依次通过所述第一出液端部和所述第二出液端部连接所述清洗刻蚀槽的入液端,且所述供液泵和所述气泡发生器之间通过一第一供液管连接,所述第一供液管的出液端的口径逐渐缩小,所述第一出液端部的口径大于所述第二出液端部的口径和所述第一供液管出液端的最小口径。

7.根据权利要求3所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述溢流装置包括回液槽和回液管,所述回液槽环绕所述清洗刻蚀槽设置于所述清洗刻蚀槽的外壁上,所述回液槽的出液端通过所述回液管连接所述供液槽的入液端。

8.根据权利要求3所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,还包括用于回收颗粒的固废收集装置,所述固废收集装置通过第一固废收集管连接所述清洗刻蚀槽底壁的出料端,所述固废收集装置通过第二固废收集管连接所述供液槽。

9.根据权利要求8所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,所述清洗刻蚀槽的底壁从中心端至所述出料端呈倾斜式,且所述底壁的中心端高于所述底壁的出料端。

10.根据权利要求1所述的清洗刻蚀系统,其特征在于,还包括设置有若干通孔的布流板,所述布流板设置在所述清洗刻蚀槽内,且所述布流板设置在所述清洗刻蚀槽的入液端的上方,所述布流板从中心端至最外端呈倾斜式,且所述布流板的中心端高于所述布流板的最外端。

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