[发明专利]一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：基板、以及层叠设置于所述基板上的至少两层掩膜层；每层掩膜层包括透光区和遮挡区，每层掩膜层的所述遮挡区设置为遮挡多个波段的曝光光线中的其中一个波段的曝光光线以形成不同的曝光图案，每层掩膜层的所述遮挡区遮挡的曝光光线的波段不同，每层掩膜层的透光区设置为透过该掩膜版的所述多个波段的曝光光线。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述多个波段的曝光光线为多个波段的紫外线。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述基板与所述掩膜层之间、以及各层掩膜层之间设置有防紫外线的支撑层，或者设置有空气间隙。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑层为SiNx膜或者为防紫外线胶水层。

5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括：

保护层，覆盖所述基板和每层掩膜层。

6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡区为光子晶体区域。

7.一种掩膜版系统，其特征在于，包括：光源以及权利要求1-6任一项所述的掩膜版；所述光源用于向所述掩膜版发射入射光线。

8.一种掩膜版制备方法，其特征在于，包括：

提供至少两个掩膜层，每个掩膜层设置为透过多个波段的曝光光线；

根据不同的曝光图案，分别在每个掩膜层上形成遮挡区；每个掩膜层的遮挡区遮挡所述多个波段的曝光光线中的其中一个波段的光线，并且每个掩膜层的遮挡区遮挡的光线波段不同；

将形成遮挡区后的每个掩膜层依次层叠固定在基板上。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述根据不同的曝光图案，分别在每个掩膜层上形成遮挡区，包括：

利用飞秒激光干涉方式或者离子束注入方式，根据不同的曝光图案，分别在每个掩膜层上形成光子晶体区域，作为遮挡区。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述将形成遮挡区后的每个掩膜层依次层叠固定在基板上，包括：

通过封框胶分别将形成遮挡区后的每个掩膜层依次层叠固定在基板上。

11.一种基于权利要求1-6任一项所述的掩膜版的光刻方法，其特征在于，所述光刻方法包括：

提供一待曝光板卡；

确定所述待曝光板卡对应波段的曝光光线；

将所述掩膜版设置在所述待曝光板卡与光源之间；

所述光源发射所述待曝光板卡对应波段的曝光光线，所述待曝光板卡对应波段的曝光光线被一层掩膜层的遮挡区遮挡，形成所述待曝光板卡对应的曝光图案。