[发明专利]一种埃米抗反射抗红外光镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述埃米抗反射抗红外光镜片包括基片和设置在所述基片表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一到第九薄膜层，其中，第一薄膜层、第四薄膜层、第六薄膜层和第九薄膜层为低折射率层，第二薄膜层和第七薄膜层为硒镀膜层、铟镀膜层或镍镀膜层中的一种或者多种组合，第三薄膜层、第五薄膜层和第八薄膜层为高折射率层；所述低折射率层的折射率为1.35-1.50，所述高折射率层的的折射率为2.00-2.50。

2.根据权利要求1所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述膜层覆盖在所述基片的内表面。

3.根据权利要求1所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。

4.根据权利要求1所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述高折射率层为材料为ZrO₂、Ti₃O₅或Ta₂O₅中的任意一种；

任选的，所述低折射率层为SiO₂、硅铝混合物或MgF₂中的任意一种；

任选的，所述第二薄膜层和第七薄膜层皆为依次层叠的硒镀膜层、铟镀膜层和镍镀膜层的组合层，其中各层的厚度分别为：硒镀膜层100-300埃米、铟镀膜层50-100埃米、镍镀膜层100-300埃米。

5.根据权利要求1所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述第一薄膜层的厚度为400-800埃米，所述第二薄膜层的厚度为200-700埃米，所述第三薄膜层的厚度为300-700埃米，所述第四薄膜层的厚度为500-900埃米，所述第五薄膜层厚度为200-500埃米，所述第六薄膜层厚度为600-1000埃米，所述第七薄膜层厚度为200-700，所述第八薄膜层厚度为200-500埃米，所述第九薄膜层厚度为500-900埃米。

6.根据权利要求5所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述第一薄膜层的厚度为500-700埃米，所述第二薄膜层的厚度为400-600埃米，所述第三薄膜层的厚度为400-600埃米，所述第四薄膜层的厚度为600-800埃米，所述第五薄膜层厚度为300-400埃米，所述第六薄膜层厚度为700-900埃米，所述第七薄膜层厚度为400-600，所述第八薄膜层厚度为300-400埃米，所述第九薄膜层厚度为600-800埃米。

7.根据权利要求1-6任一项所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：还包括保护层，所述保护层覆盖在所述第九薄膜层的外表面，所述保护层的厚度为50-300埃米。

8.根据权利要求7所述埃米抗反射抗红外光镜片，其特征在于：所述第一薄膜层为SiO₂，厚度为650埃米，所述第二薄膜层和所述第七薄膜层皆为硒镀膜层、铟镀膜层和镍镀膜层的组合层，其中各层的厚度分别为：所述硒镀膜层200埃米、所述铟镀膜层50埃米、所述镍镀膜层300埃米，所述第三薄膜层为Ti₃O₅镀膜层，厚度530埃米，所述第四薄膜层为SiO₂，厚度800埃米，所述第五薄膜层为Ti₃O₅，厚度330埃米，所述第六薄膜层为SiO₂，厚度820埃米，所述第八薄膜层为Ti₃O₅，厚度350埃米，所述第九薄膜层为SiO₂，厚度750埃米，所述保护层为防水保护层，厚度280埃米。