[发明专利]电致调光玻璃及其制备方法

说明书

本发明实施例公开的一种电致调光玻璃制备方法和电致调光玻璃。所述电致调光玻璃制备方法例如包括：提供玻璃基板；在所述玻璃基板上形成第一导电层；在所述第一导电层上形成第一辅调光层；在所述第一辅调光层上形成第一离子导体层；在所述第一离子导体层上形成第一主调光层；在所述第一主调光层上形成第二导电层；在所述第二导电层上形成第二主调光层；在所述第二主调光层上形成第二离子导体层；在所述第二离子导体层上形成第二辅调光层；在所述第二辅调光层上形成第三导电层；以及在所述第三导电层上形成顶层保护层。本发明实施例可以提升电致调光玻璃在大面积产品器件的变色均匀性。

技术领域

本发明涉及一种玻璃技术领域，尤其是一种电致调光玻璃和一种电致调光玻璃制备方法。

背景技术

目前电致调光玻璃产业化过程中，电致调光产品在大面积产品器件的变色均匀性及变色周期循环寿命上还存在很多缺陷，无机变色材料主要为WO₃材料。WO₃材料是一种众所周知的高效的阴极变色材料，通过化学的氧化与还原反应，控制WO₃中W的价态变化，可以实现对光谱的吸收调控作用。但由于目前的电致调光产品存在大面积变色不均匀，周期循环寿命短等，循环到一定次数后，电极附近变色功能衰减严重甚至不变色，大大影响了其在工程中的应用。

发明内容

针对上述问题，本发明实施例提供了一种电致调光玻璃及其制备方法，可以提升电致调光玻璃在大面积产品器件的变色均匀性。

具体地，本发明实施例提供一种电致调光玻璃备份方法，包括：提供玻璃基板；在所述玻璃基板上形成第一导电层；在所述第一导电层上形成第一辅调光层；在所述第一辅调光层上形成第一离子导体层；在所述第一离子导体层上形成第一主调光层；在所述第一主调光层上形成第二导电层；在所述第二导电层上形成第二主调光层；在所述第二主调光层上形成第二离子导体层；在所述第二离子导体层上形成第二辅调光层；在所述第二辅调光层上形成第三导电层；以及在所述第三导电层上形成顶层保护层。

在本发明的一个实施例中，所述第一主调光层、所述第二主调光层的靶材材料分别选自于W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少两种组合的氧化物。

在本发明的一个实施例中，所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的靶材材料分别选自于Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少两种元素组合的氧化物。

在本发明的一个实施例中，所述第一主调光层、所述第二主调光层的厚度范围分别为30nm-500nm；所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的厚度范围分别为20nm-500nm。

另一方面，本发明实施例提供的一种电致调光玻璃，包括玻璃基板和依次形成于所述玻璃基板同一侧的第一导电层、第一辅调光层、第一离子导体层、第一主调光层、第二导电层、第二主调光层、第二离子导体层、第二辅调光层、第三导电层以及顶层保护层。

在本发明的一个实施例中，所述第一主调光层、所述第二主调光层的材料分别选自于W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少两种组合的氧化物；所述第一主调光层、所述第二主调光层的厚度范围分别为30nm-500nm。

在本发明的一个实施例中，所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的材料分别选自于Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少两种元素组合的氧化物；所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的厚度范围分别为20nm-500nm。

在本发明的一个实施例中，所述第一导电层、所述第二导电层、所述第三导电层的材料分别选自于FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一种或至少两种的组合；所述第一导电层、所述第二导电层的厚度范围分别为1-1100nm；所述第三导电层的厚度范围为10-1000nm。

在本发明的一个实施例中，所述第一离子导体层、所述第二离子导体层的材料分别选自于H、Li、Na、K、Mg中的一种或至少两种的组合；所述第一离子导体层、所述第二离子导体层的厚度范围分别为10nm-100nm。