[发明专利]离子交换膜固定装置及电镀装置在审

专利信息
申请号: 201911242550.3 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN112921381A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 余齐兴;杨宏超;金一诺;陆陈华;王坚;王晖 申请(专利权)人: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 佟婷婷
地址: 201203 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 离子交换 固定 装置 电镀
【权利要求书】:

1.一种离子交换膜固定装置,适于固定离子交换膜,其特征在于,所述离子交换膜固定装置包括:

离子膜骨架,所述离子膜骨架上形成有凹槽结构;

第一垫片,设置于所述凹槽结构的底部;

第二垫片,设置于所述凹槽结构中且位于所述第一垫片上方;

其中,所述离子交换膜包括待固定区域,所述待固定区域至少位于所述第一垫片与所述第二垫片之间,且所述第一垫片、所述第二垫片以及所述离子交换膜的厚度之和等于所述凹槽结构的深度;以及

至少一个固定组件,所述固定组件至少设置于所述离子膜骨架上以将所述离子交换膜固定在所述离子膜骨架上。

2.根据权利要求1所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述固定组件包括压环及固定件,所述压环设置于所述第二垫片上,所述固定件依次穿过所述压环、所述第二垫片、所述离子交换膜、所述第一垫片并延伸至所述离子膜骨架中与所述离子膜骨架相固定。

3.根据权利要求2所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述压环的压缩变形率小于5%。

4.根据权利要求3所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述压环的材料包括不锈钢、钛以及钽中的任意一种。

5.根据权利要求3所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述压环表面镀有耐腐蚀层。

6.根据权利要求2所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述固定件包括螺栓,所述螺栓包括依次连接的螺栓帽、第一固定部以及第二固定部,其中,所述第二固定部表面形成有外螺纹,且所述第一固定部的直径大于所述第二固定部的直径,所述第一固定部的下表面与所述凹槽结构显露的所述离子膜骨架的表面相接触。

7.根据权利要求1所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述凹槽结构的槽口边缘包括钝化结构。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述第一垫片及所述第二垫片的材料均包括硅胶材料及橡胶材料中的任意一种。

9.根据权利要求8所述的离子交换膜固定装置,其特征在于,所述离子交换膜还包括主体膜区,所述待固定区域位于所述主体膜区的外围,所述待固定区域依次包括保护部、层压部以及弯折部,所述弯折部与所述主体膜区相连接,所述层压部位于所述第一垫片与所述第二垫片之间,所述保护部及所述弯折部分别位于所述第二垫片相对的两侧部。

10.一种电镀装置,其特征在于,所述电镀装置包括如权利要求1-9中任意一项所述的离子交换膜固定装置,其中,所述离子交换膜隔离所述电镀装置的阴极腔中的阴极液与所述电镀装置的阳极腔中的阳极液。

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