[发明专利]偏光片及其制备方法、显示面板、显示装置

说明书

一种偏光片及其制备方法、显示面板、显示装置，该偏光片包括偏光层，所述偏光层包括第一偏光区和第二偏光区，所述第一偏光区的光透过率大于所述第二偏光区的光透过率，且所述第一偏光区的光透过率与所述第二偏光区的光透过率之比介于1.1:1至2.6:1之间。该偏光片适用于屏下摄像头应用。

技术领域

本发明的实施例涉及一种偏光片及其制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

随着手机等显示电子产品的发展，显示屏的屏占比的提升成为一种产品趋势，前置摄像头等手机必备的功能元件成为制约屏占比提升的一大因素。针对这个问题，业界提出了屏下摄像头的方案。

对于OLED(有机电致光二极管)显示装置来说，偏光片被用于抵抗环境光，减少显示方面的干扰，但同时偏光片会削弱进入屏下摄像头的光线强度，影响屏下摄像头的成像质量。

发明内容

本公开至少一实施例提供一种偏光片，包括偏光层，所述偏光层包括第一偏光区和第二偏光区，所述第一偏光区的光透过率大于所述第二偏光区的光透过率，且所述第一偏光区的光透过率与所述第二偏光区的光透过率之比介于1.1:1至2.6:1之间。

在一些示例中，所述第一偏光区和所述第二偏光区是一体的。

在一些示例中，所述第一偏光区的光透过率介于60％至90％之间。

在一些示例中，所述第二偏光区的光透过率介于35％至55％之间。

在一些示例中，所述偏光片还包括：设置在所述偏光层的一侧的第一保护层和/或设置在所述偏光层的另一侧的第二保护层。

在一些示例中，所述第一保护层和所述第二保护层为三醋酸纤维素层，所述偏光层为聚乙烯醇层。

本公开至少一实施例提供一种偏光片的制备方法，所述方法包括提供包括待处理偏光层；处理所述待处理偏光层以得到处理后的偏光层，所述处理后的偏光层包括第一偏光区和第二偏光区，所述第一偏光区的光透过率大于所述第二偏光区的光透过率，且所述第一偏光区的光透过率与所述第二偏光区的光透过率之比介于1.1:1至2.6:1之间；使用所述处理后的偏光层以得到所述偏光片。

在一些示例中，所述处理所述待处理偏光层包括对所述第一偏光区进行处理，使得所述第一偏光区的光透过率增大以大于所述第二偏光区的光透过率。

在一些示例中，在处理所述待处理偏光层之前，还包括在所述待处理偏光层的至少一侧表面上还形成附加层，由此使得所述待处理偏光层在形成有所述附加层的状态下被处理。

在一些示例中，所述处理所述待处理偏光层还包括：提供具有对应于所述第一偏光区的开口的掩模板，将所述掩模板设置在所述待处理偏光层的至少一侧的表面上，将所述待处理偏光层置于处理温度下一处理时间，以使得所述第一偏光区的光透过率增大以大于所述第二偏光区的光透过率。

在一些示例中，在将所述待处理偏光层置于所述处理温度的同时，将所述待处理偏光层置于处理湿度。

在一些示例中，所述处理温度的温度范围约为85至150℃，所述处理湿度大于等于70％，所述处理时间大于等于0.5小时。

在一些示例中，所述处理所述待处理偏光层还包括对所述待处理偏光层的第一偏光区施加光照射，以使得所述第一偏光区的光透过率增大以大于所述第二偏光区的光透过率。

在一些示例中，所述光照射所使用的光为蓝光、紫外光或X光。

在一些示例中，所述处理待处理偏光层还包括在处理湿度下对所述待处理偏光层的所述第一偏光区施加试剂一处理时间，所述处理湿度大于等于70％，所述处理时间大于等于0.5小时。

本公开至少一实施例提供一种显示面板，包括上述偏光片。