[发明专利]偏光片及其制备方法、显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种偏光片，包括偏光层，其中，所述偏光层包括：

第一偏光区，其中，所述第一偏光区已通过将具有对应于所述第一偏光区的开口的金属掩模板设置于待处理偏光层的至少一侧的表面上以及将所述待处理偏光层置于处理温度下一处理时间而被处理为具有第一偏光区的光透过率，在将所述待处理偏光层置于所述处理温度的同时，将所述待处理偏光层置于处理湿度，其中，所述金属掩模板中的除去所述开口的部分配置为阻挡水汽进入所述偏光层，所述金属掩模板的所述开口作为无遮挡的区域以使水汽通过所述开口进入所述偏光层；

第二偏光区，其中，所述第一偏光区的光透过率大于所述第二偏光区的光透过率，且所述第一偏光区的光透过率与所述第二偏光区的光透过率之比介于1.1:1至2.6:1之间。

2.根据权利要求1所述的偏光片，其中，所述第一偏光区和所述第二偏光区是一体的。

3.根据权利要求1或2所述的偏光片，其中，所述第一偏光区的光透过率介于60％至90％之间。

4.根据权利要求1或2所述的偏光片，其中，所述第二偏光区的光透过率介于35％至55％之间。

5.根据权利要求1或2所述的偏光片，还包括：

设置在所述偏光层的一侧的第一保护层；

设置在所述偏光层的另一侧的第二保护层。

6.根据权利要求5所述的偏光片，其中，所述第一保护层和所述第二保护层为三醋酸纤维素层，

所述偏光层为聚乙烯醇层。

7.一种偏光片的制备方法，包括：

提供待处理偏光层；以及

处理所述待处理偏光层以得到处理后的偏光层，其中，所述处理后的偏光层包括第一偏光区和第二偏光区，所述第一偏光区的光透过率大于所述第二偏光区的光透过率，且所述第一偏光区的光透过率与所述第二偏光区的光透过率之比介于1.1:1至2.6:1之间；

使用所述处理后的偏光层以得到所述偏光片；

其中，所述处理所述待处理偏光层还包括：

提供具有对应于所述第一偏光区的开口的金属掩模板，

将所述金属掩模板设置于所述待处理偏光层的至少一侧的表面上，其中，所述金属掩模板中的除去所述开口的部分配置为阻挡水汽进入所述偏光层，所述金属掩模板的所述开口作为无遮挡的区域以使水汽通过所述开口进入所述偏光层；

将所述待处理偏光层置于处理温度下一处理时间，以使得所述第一偏光区的光透过率增大以大于所述第二偏光区的光透过率；

其中，在将所述待处理偏光层置于所述处理温度的同时，将所述待处理偏光层置于处理湿度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述处理所述待处理偏光层包括：

对所述第一偏光区进行处理，使得所述第一偏光区的光透过率增大以大于所述第二偏光区的光透过率。

9.根据权利要求7所述的方法，在处理所述待处理偏光层之前，还包括：

在所述待处理偏光层的至少一侧表面上形成附加层，由此使得所述待处理偏光层在形成有所述附加层的状态下被处理。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，所述处理温度的温度范围为85至150℃，所述处理湿度大于等于70％，所述处理时间大于等于0.5小时。

11.一种显示面板，包括如权利要求1-6任一所述的偏光片。

12.根据权利要求11所述的显示面板，还包括：

基底；

显示功能层，设置于所述基底上且包括第一显示区和第二显示区；

其中，所述偏光片设置在所述显示功能层的出光侧，所述第二显示区在所述基底上的正投影和所述第一偏光区在所述基底上的正投影彼此交叠。