[发明专利]一种腐蚀液及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液包括质量百分比为0.5-4.5％的碱、0.01-0.225％的山梨酸钾、0.01-0.225％的乙酸钠、0.005-0.15％的十二烷基苯硫酸钠、0.055-0.46％的消泡剂、0.055-0.78％的表面活性剂、0.035-0.42％的分散剂、0.47-4.42％的功能性助剂以及余量的水。

2.根据权利要求1所述的腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液包括质量百分比为2.4-3％的碱、0.0195-0.105％的山梨酸钾、0.015-0.1％的乙酸钠、0.012-0.075％的十二烷基苯硫酸钠、0.105-0.31％的消泡剂、0.105-0.36％的表面活性剂、0.066-0.195％的分散剂、2.75-4.42％的功能性助剂以及余量的水。

3.根据权利要求1或2所述的腐蚀液，其特征在于，所述碱包括氢氧化钠和/或氢氧化钾；

优选地，所述消泡剂包括聚醚改性硅油和/或聚硅氧烷，优选聚二甲基硅氧烷。

4.根据权利要求1-3任一项所述的腐蚀液，其特征在于，所述表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、丙二醇嵌段聚醚或全氟烷基季胺碘化物中的任意一种或多种的组合；

优选地，所述分散剂包括聚苯乙烯、聚乙烯、聚丙烯或聚丙烯酸钠中的任意一种或至少两种的组合。

5.根据权利要求1-4任一项所述的腐蚀液，其特征在于，所述腐蚀液还包括质量百分比为0.47-4.42％的功能性助剂；

优选地，所述功能性助剂包括氧化剂和/或稳定剂。

6.根据权利要求1-5任一项所述的腐蚀液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将氢氧化钾、制绒添加剂、单面抛光添加剂、去离子水以及任选的功能性助剂混合，得到所述腐蚀液；

优选地，所述混合是在搅拌条件下进行的。

7.一种基片层，其特征在于，所述基片层包括N型基底层、依次设置在N型基底层正面的发射极层和硼硅玻璃层，以及设置在N型基底层背面的金字塔型结构的绒面，所述金字塔型结构的绒面是通过权利要求1-5任一项所述腐蚀液刻蚀形成的。

8.根据权利要求7所述的基片层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将预处理后的N型基片采用权利要求1-5任一项所述的腐蚀液进行刻蚀，得到所述基片层；

优选地，所述刻蚀的温度为50-90℃；

优选地，所述刻蚀的时间为300-1200s；

优选地，所述预处理后的N型基片的制备方法包括：对预制品N型基片进行硼扩散，而后进行背面刻蚀除去背面以及侧面绕扩的硼硅玻璃层，得到所述预处理后的N型基片；

优选地，所述预制品N型基片为对N型基底层双面制绒得到的。

9.一种N型钝化接触电池的制备方法，其特征在于，所述N型钝化接触电池是通过权利要求7所述的基片层制备得到的。

10.根据权利要求9所述的制备方法制备得到的所述N型钝化接触电池。