[发明专利]一种显示基板、其制作方法及母板、显示面板、显示装置有效
| 申请号: | 201911085762.5 | 申请日: | 2019-11-08 |
| 公开(公告)号: | CN110796949B | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
| 发明(设计)人: | 韩林宏;张毅;秦世开 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G09F9/00 | 分类号: | G09F9/00;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 刘源 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 母板 面板 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,包括:衬底基板,在所述衬底基板上依次设置的无机膜层、平坦层和阳极;其中,
所述衬底基板具有显示区域,包围所述显示区域的切割区域,以及位于所述显示区域与所述切割区域之间的过渡区域;
所述阳极设置于所述显示区域内;
所述无机膜层覆盖所述衬底基板,且所述无机膜层在所述切割区域被减薄处理;
所述过渡区域的所述无机膜层上具有源漏极金属残留;
所述平坦层至少设置于所述显示区域和所述过渡区域,且所述平坦层包覆所述源漏极金属残留。
2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述平坦层在所述衬底基板上的正投影与所述显示区域和所述过渡区域完全重叠,并与所述切割区域部分重叠。
3.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述切割区域的所述无机膜层包括刻蚀阻挡层,所述显示区域和所述过渡区域的所述无机膜层包括在所述衬底基板上依次层叠设置的所述刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层。
4.如权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述刻蚀阻挡层在所述切割区域的厚度小于其在所述显示区域和所述过渡区域的厚度。
5.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板上整面涂覆无机材料层,并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理,形成无机膜层;
在所述无机膜层上形成位于显示区域的源漏极,以及位于过渡区域的源漏极金属残留;
在所述源漏极所在层上形成平坦层,所述平坦层包覆所述源漏极金属残留,且所述平坦层在所述切割区域断开;
在所述平坦层上依次整面涂覆阳极材料层和光刻胶层;
对所述阳极材料层进行曝光显影、湿法刻蚀,形成位于所述显示区域的阳极;
沿所述切割区域对所述衬底基板进行切割,获得所述显示基板。
6.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,在所述衬底基板上涂覆无机材料层,并对切割区域的所述无机材料层进行减薄处理,具体包括:
在所述衬底基板上依次整面涂覆形成刻蚀阻挡层、缓冲层、第一绝缘层和第二绝缘层;
采用第一刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述第一绝缘层和所述第二绝缘层进行刻蚀后,再采用第二刻蚀掩膜板对所述切割区域的所述缓冲层和所述刻蚀阻挡层进行刻蚀,形成所述无机膜层。
7.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,在所述源漏极所在层上形成平坦层,具体包括:
在所述源漏极所在层上整面涂覆有机材料层;
对所述有机材料层进行曝光显影,形成包覆所述源漏极 金属残留且在所述切割区域断开的所述平坦层。
8.一种母板,其特征在于,包括:多个阵列排布的如权利要求1-4任一项所述的显示基板;
各所述显示基板的平坦层相互独立,相邻两个所述显示基板的无机膜层相互连接。
9.一种显示面板,其特征在于,包括:如权利要求1-4任一项所述的显示基板。
10.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求9所述的显示面板。
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