[发明专利]一种湿敏元件及其制备工艺在审
| 申请号： | 201911070795.2 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN110927001A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 陈贵东;毛海央;陈大鹏 | 申请（专利权）人： | 无锡物联网创新中心有限公司 |
| 主分类号： | G01N5/02 | 分类号： | G01N5/02;G01N33/00 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李亚南 |
| 地址： | 214135 江苏省无锡市新吴区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 元件 及其 制备 工艺 | ||
1.一种湿敏元件，其特征在于，包括：晶振片(1)，设置于晶振片(1)的一侧面表层的湿敏材料层，所述湿敏材料层由燃料(4)燃烧过程中的火焰沉积形成的烛灰纳米颗粒结构(2)构成，且烛灰纳米颗粒结构(2)的表层经过亲水性处理(3)。
2.根据权利要求1所述的湿敏元件，其特征在于，所述湿敏材料层的厚度为1μm～8μm。
3.根据权利要求1或2所述的湿敏元件，其特征在于，所述晶振片(1)为基准频率5～10MHz的石英晶振片。
4.一种湿敏元件的制备工艺，其特征在于，包括：
将晶振片(1)放置在燃料(4)燃烧的火焰上方，将燃烧过程中形成的烛灰纳米颗粒通过熏镀的方式熏镀在晶振片(1)上形成烛灰纳米颗粒结构(2)，然后对烛灰纳米颗粒结构(2)的表面进行亲水性处理(3)后形成湿敏元件；
或者，将燃烧过程中形成的烛灰纳米颗粒收集后，将其采用喷涂的方式附着在晶振片(1)上形成烛灰纳米颗粒结构(2)，然后对烛灰纳米颗粒结构(2)的表面进行亲水性处理(3)后形成湿敏元件。
5.根据权利要求4所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述晶振片(1)距离火焰的内焰顶端的距离为0.5cm～1.5cm，熏镀过程中匀速移动晶振片(1)。
6.根据权利要求4或5所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述烛灰纳米颗粒结构(2)的厚度为1μm～8μm。
7.根据权利要求4～6任一项所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述亲水性处理(3)的处理方式为氧等离子体轰击。
8.根据权利要求7所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述氧等离子体轰击中氧气流量为1～5L/min、功率为50～500W。
9.根据权利要求7或8所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述氧等离子体轰击的时间为30～60s。
10.根据权利要求4～9任一项所述的湿敏元件的制备工艺，其特征在于，所述燃料(4)为蜡、酒精或油；所述晶振片(1)为基准频率5～10MHz的石英晶振片。
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