[发明专利]一种掩膜版有效
| 申请号： | 201911056321.2 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN110629165B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 张志远 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 | ||
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
边框以及所述边框环绕的开口；
遮挡部以及固定支撑所述遮挡部的支撑部，所述遮挡部位于所述开口内，所述支撑部呈网格状且所述支撑部对应待蒸镀基板上相邻像素单元之间的区域设置；
所述支撑部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，所述第二凹槽内设置有多个凸起结构。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑部占据部分所述开口。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑部形成多个镂空区，每一所述镂空区对应至少一个所述像素单元设置。
4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑部与所述遮挡部一体形成，或者所述支撑部焊接于所述遮挡部上。
5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述支撑部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离所述待蒸镀基板的第二部分，所述第二部分的垂直投影覆盖所述第一部分的垂直投影，所述第一部分平行于所述掩膜版的横截面积沿靠近所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，沿垂直于所述掩膜版的方向，所述第二部分平行于所述掩膜版的横截面积沿远离所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。
7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽，和/或，所述遮挡部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽。
8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡部划分为中间区和环绕所述中间区的边缘区，所述第一凹槽位于所述中间区。
9.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽，和/或，所述支撑部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽。
10.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，沿垂直于所述掩膜版的方向所述凸起结构的高度相同。
11.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述多个凸起结构均匀分布。
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