[发明专利]晶体生长悬浮提拉炉在审
申请号: | 201911036220.9 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN110629280A | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 邾根祥;朱沫浥;王伟;安唐林 | 申请(专利权)人: | 合肥科晶材料技术有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B15/10;C30B15/30;C30B29/02 |
代理公司: | 34155 合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 王芸 |
地址: | 230088 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚升降机构 不锈钢 抽真空组件 水冷铜坩埚 腔室 晶体生长炉 单晶生长 滑动连接 金属单晶 金属晶体 控制装置 腔室密封 腔室内部 射频电源 提拉机构 整体电路 模块化 水冷机 提拉炉 上端 锈钢 支架 悬浮 研究 院校 生长 自由 | ||
1.一种单晶生长悬浮提拉炉,包括水冷铜坩埚、不锈钢腔室、感应射频电源、整体电路控制装置、水冷机、抽真空组件、提拉机构和坩埚升降机构;其特征在于:所述水冷铜坩埚设在不锈钢腔室内部并与其滑动连接,不锈钢腔室底部设有坩埚升降机构,坩埚升降机构锈钢腔室密封连接,坩埚升降机构上端与水冷铜坩埚连接,所述不锈钢腔室外侧与抽真空组件连接,抽真空组件安装在支架上,所述抽真空组件、水冷机、不锈钢腔室、感应射频电源、提拉机构及坩埚升降机构通过整体电路控制装置进行控制。
2.根据权利要求1所述的晶体生长悬浮提拉炉,其特征在于:水冷铜坩埚采用16个水冷铜瓣组成,最大熔样品量为60g。
3.根据权利要求1所述的晶体生长悬浮提拉炉,其特征在于:不锈钢水冷真空腔室采用304不锈钢双层水冷腔体,确保设备工作时表明温度≤40℃,腔体上有观察窗口、四芯陶峰电机、真空压力表及抽真空孔,抽真空孔与抽真空组件连通。
4.根据权利要求1所述的晶体生长悬浮提拉炉,其特征在于:抽真空部分,采用分子泵系统,真空泵和电动插板阀对腔体进行抽真空。
5.根据权利要求1所述的晶体生长悬浮提拉炉,其特征在于:所述提拉机构带水冷,水冷内制冷也通过水冷机输送,提拉机构具有手动和自动两种模式。
6.根据权利要求1所述的晶体生长悬浮提拉炉,其特征在于:坩埚升降机构,采用动密封系统,通过手摇微调坩埚上下的位置,调整坩埚与感应线圈的距离,确保熔炼时合适的磁场和观察角度。
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