[发明专利]一种用于半导体设备单晶炉内石英坩埚的高度调节装置在审
| 申请号: | 201910964938.8 | 申请日: | 2019-10-11 |
| 公开(公告)号: | CN110541194A | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
| 发明(设计)人: | 王华珍 | 申请(专利权)人: | 王华珍 |
| 主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10;C30B29/06;C30B35/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 内螺纹管 单晶炉 升降螺杆 通孔 耐高温轴承 固定装置 升降机构 同步齿轮 上端 下端 半导体生产设备 高度调节装置 行程控制装置 液位检测模块 半导体设备 底部中心处 单晶硅 均匀设置 配合安装 驱动机构 石英坩埚 螺纹 轴承 配合 取出 外部 | ||
本发明涉及半导体生产设备技术领域,尤其是一种用于半导体设备单晶炉内石英坩埚的高度调节装置,包括安装在单晶炉内的升降机构、驱动机构、液位检测模块、固定装置和行程控制装置,升降机构包括升降螺杆、与升降螺杆配合的内螺纹管和与内螺纹管配合的同步齿轮,单晶炉的底部中心处均匀设置4个通孔,4个通孔之间形成正方形,每个通孔内均安装有耐高温轴承,4个内螺纹管的中部分别固定安装在对应的耐高温轴承内,内螺纹管以轴承为界上端位于单晶炉内,下端位于单晶炉外部,升降螺杆分别螺纹配合安装在对应的内螺纹管内,且升降螺杆的上端与固定装置的底部固定连接,4个同步齿轮分别安装在对应的内螺纹管的下端上,本发明能够便于单晶硅的取出。
技术领域
本发明涉及半导体生产设备技术领域,具体领域为一种用于半导体设备单晶炉内石英坩埚的高度调节装置。
背景技术
单晶炉作为半导体生产设备中的一个重要加工设备,其包括有石英坩埚,作为单晶硅的重要加工部件,但是现有的单晶炉中,石英坩埚为固定在单晶炉内无法在单晶炉内的高度调整,因此当石英坩埚内液体较少时,析出的单晶硅位于单晶炉内较低的位置,造成单晶硅的取出困难,降低了生产效率,且操作步骤繁琐。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于半导体设备单晶炉内石英坩埚的高度调节装置,以解决现有技术中单晶炉中单晶硅析出效率低、取出较为困难的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种用于半导体设备单晶炉内石英坩埚的高度调节装置,包括安装在单晶炉内的升降机构、驱动机构、液位检测模块、用于固定石英坩埚的固定装置和行程控制装置,所述升降机构包括4个升降螺杆、4个与升降螺杆配合的内螺纹管和4个与内螺纹管配合的同步齿轮,所述的单晶炉的底部中心处均匀设置4个通孔,4个通孔之间形成正方形,每个通孔内均安装有耐高温轴承,4个内螺纹管的中部分别固定安装在对应的耐高温轴承内,内螺纹管以轴承为界上端位于单晶炉内,下端位于单晶炉外部,所述升降螺杆分别螺纹配合安装在对应的内螺纹管内,且升降螺杆的上端与固定装置的底部固定连接,4个同步齿轮分别安装在对应的内螺纹管的下端上,
驱动机构包括电机、驱动齿轮和同步带,电机安装在单晶炉的外部,驱动齿轮安装在电机的输出轴上,且驱动齿轮与4个同步齿轮对应匹配,同步带套设在驱动齿轮和4个同步齿轮的外部,通过同步带同步联动4个同步齿轮同时运行,
液位检测模块安装在单晶炉的上端开口处,且液位检测模块的检测端朝向石英坩埚内设置,行程控制装置安装在单晶炉的外部,液位检测模块的信号输出端与行程控制装置的输入端连接,行程控制装置的输出端与电机的控制端连接。
优选的,所述升降螺杆和内螺纹管均由耐高温金属制成。
优选的,所述的单晶炉的外部底端处设置有安装架,且安装架的位于同步齿轮的正下方处,所述电机固定设置在安装架上。
优选的,所述安装架上对应于4个同步齿轮处分别安装有阶梯轴,4个同步齿轮分别转动安装在对应的阶梯轴上。
优选的,所述安装架上对应于同步带处设置有自动张紧装置,自动张紧装置的张紧操作端抵触于同步带的外部表面。
优选的,所述自动张紧装置包括张紧滚轮、调节弹簧、滑块和滑动槽,滑动槽设置在架体上,滑块滑动安装在滑动槽内,调节弹簧安装在滑动槽内,且调节弹簧的一端抵触于滑动槽的一侧壁,调节弹簧的另一端抵触于滑块上,通过调节弹簧的弹力左右,能够推动滑块朝向同步带方向滑动,张紧滚轮转动安装在滑块上,且张紧滚轮为竖直设置,张紧滚轮的表面抵触于同步带的外侧表面上。
优选的,所述液位检测模块为激光液位检测传感器。
优选的,所述固定装置包括坩埚托盘和限位块,坩埚托盘的底部与升降螺杆固定连接,坩埚托盘的上部为与石英坩埚匹配的弧形槽,限位块安装在弧形槽内的中心处。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王华珍,未经王华珍许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910964938.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





