[发明专利]掩模框架、掩模板以及掩模结构

说明书

本发明涉及一种掩模框架、掩模板及掩模结构，掩模框架包括：主框体，围合形成蒸镀区域；支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构时，在限位部的限位作用下，掩模板难以在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架移动，从而避免掩模板因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构。

背景技术

有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode, OLED）又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器 (LiquidCrystal Display，LCD)显示。

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩模板主要包括通用金属掩模板（Common Metal Mask，CMM）及精密金属掩模板（Fine Metal Mask，FMM），其中精密金属掩模板用于使有机发光材料被蒸镀至基板的指定位置。现有的精密金属掩模板通常呈条状结构，每条精密金属掩模板分别支撑在掩模框架上，掩模框架设有遮挡条，遮挡条用于遮挡相邻两条精密金属掩模板之间的间隙，从而阻挡发光有机材料通过相邻两条精密金属掩模板之间的间隙蒸镀至基板上。

发明人在研究中发现，在蒸镀过程中，遮挡条与精密金属掩模板容易产生相对移动，导致遮挡条的遮挡与支撑效果减弱，甚至产生挤压导致精密金属掩模板的边缘变形受损，进而影响像素位置精度。

发明内容

基于此，本发明提供了一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，以解决遮挡条与精密金属掩模板容易产生相对移动的问题，提高了显示面板像素位置精度。

根据本申请的一个方面，提供一种掩模框架，用于支撑掩模板，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。

如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构时，在限位部的限位作用下，掩模板难以在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架移动，从而避免掩模板因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

在一实施例中，所述支撑组件包括遮挡条和支撑条，所述遮挡条与所述支撑条相交设置于所述主框体上；

所述遮挡条与所述支撑条均包括用于支撑所述掩模板的所述支撑面，所述遮挡条与所述支撑条中至少一者的所述支撑面上形成有所述限位部。

在一实施例中，多条所述遮挡条沿第一方向间隔排布，多条所述支撑条沿相交于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述限位部在所述第一方向上限制所述掩模板的移动。

在一实施例中，所述限位部包括第一限位部和/或第二限位部；

其中，所述第一限位部靠近所述掩模板的边缘与所述掩模板在所述遮挡条上的正投影的边缘重合；

所述第二限位部位于所述掩模板在所述遮挡条和/或所述支撑条上的正投影范围内。

在一实施例中，所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起；所述第二限位部为自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向内凹陷的限位槽。