[发明专利]掩模框架、掩模板以及掩模结构

权利要求书

1.一种掩模框架，用于支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括遮挡条和支撑条，所述遮挡条与所述支撑条相交设置于所述主框体上，多条所述遮挡条沿第一方向间隔排布，多条所述支撑条沿相交于所述第一方向的第二方向间隔排布；所述遮挡条与所述支撑条均包括用于支撑所述掩模板的支撑面，所述遮挡条与所述支撑条中至少一者的所述支撑面上形成有限位部，所述限位部在所述第一方向上限制所述掩模板的移动，所述遮挡条用于遮挡相邻两条所述掩模板之间在第二方向上的间隙；

其中，所述限位部包括第一限位部和第二限位部，所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起，所述第一限位部靠近所述掩模板的边缘与所述掩模板在所述遮挡条上的正投影的边缘重合，所述第一限位部用于在所述第一方向上抵持所述掩模板的边缘以阻挡所述掩模板沿所述第一方向移动；所述第二限位部为自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向内凹陷的限位槽，所述第二限位部位于所述掩模板在所述遮挡条和/或所述支撑条上的正投影范围内，所述第二限位部用于与所述掩模板上的配合部相互匹配以将所述掩模板固定于所述支撑面上。

2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，至少部分所述限位槽的内壁覆盖有粘接层。

3.一种掩模板，所述掩模板可支撑于如权利要求1至2任意一项所述的掩模框架上，其特征在于，所述掩模板支撑于所述支撑组件的所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。

4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板的边缘与所述第一限位部边缘抵接。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括与所述第二限位部互补的配合部，所述配合部为自所述蒸镀面向内凹陷的配合槽或自所述蒸镀面向外凸出的配合凸起。

6.根据权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述配合槽的内壁覆盖有粘接层。

7.一种掩模结构，其特征在于，包括如权利要求1至2任意一项所述的掩模框架及如权利要求3至6任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板支撑于所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。