[发明专利]测试掩模版及其形成方法、测试掩模版的形成装置

权利要求书

1.一种测试掩模版的形成方法，其特征在于，包括如下步骤：

形成具有多个测试图形的初始版图，相邻测试图形之间具有第一间隙；

获取对应的产品掩模版中的图形密度分布；

添加若干冗余图形至所述初始版图的所述第一间隙中，形成版图，所述版图中的图形密度分布与所述产品掩模版中的图形密度分布的差值在一预设范围内；

根据所述版图生成测试掩模版。

2.根据权利要求1所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，形成所述初始版图之前还包括如下步骤：

提供多种不同类型的基础图形，任意两种类型的所述基础图形的形状和/或尺寸不同；

形成多种不同类型的测试图形，每种类型的所述测试图形由至少两种类型的基础图形排布形成，任意两种类型的所述测试图形中的基础图形种类和/或排布方式不同。

3.根据权利要求2所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，形成具有多个测试图形的初始版图的具体步骤包括：

选择至少两种类型的测试图形排布形成所述初始版图。

4.根据权利要求2所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，形成所述版图的具体步骤包括：

获取所述初始版图中的图形密度分布；

添加多个冗余图形至所述初始版图的所述第一间隙中，所述冗余图形的尺寸和/或相邻所述冗余图形之间的间隔宽度均根据所述产品掩模版的图形密度分布和所述初始版图中的图形密度分布确定。

5.根据权利要求4所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，每一所述测试图形内部的相邻两个所述基础图形之间具有第二间隙；形成所述版图的步骤还包括：

添加多个冗余图形至所述初始版图的所述第二间隙中。

6.根据权利要求5所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，所述第一间隙和所述第二间隙内填充的多个所述冗余图形均呈阵列排布。

7.根据权利要求1所述的测试掩模版的形成方法，其特征在于，所述冗余图形为矩形。

8.一种测试掩模版，其特征在于，包括：

多个测试图形，相邻测试图形之间具有第一间隙；

若干冗余图形，位于所述第一间隙内，使得所述测试掩模版的图形密度分布与对应的产品掩模版中的图形密度分布的差值在一预设范围内。

9.根据权利要求8所述的测试掩模版，其特征在于，每一所述测试图形由至少两种类型的基础图形排布形成，任意两种类型的所述基础图形的形状和/或尺寸不同；

多个所述测试图形至少属于两种不同类型的测试图形，不同类型的测试图形是指形成所述测试图形的所述基础图形的种类和/或排布方式不同。

10.根据权利要求9所述的测试掩模版，其特征在于，每一所述测试图形内部的相邻两个所述基础图形之间具有第二间隙；

所述第二间隙中填充有多个所述冗余图形。

11.根据权利要求10所述的测试掩模版，其特征在于，所述第一间隙和所述第二间隙内填充的多个所述冗余图形均呈阵列排布。

12.根据权利要求8所述的测试掩模版，其特征在于，所述冗余图形为矩形。

13.一种测试掩模版的形成装置，其特征在于，包括：

处理模块，用于形成具有多个测试图形的初始版图，相邻测试图形之间具有第一间隙；

获取模块，用于获取对应的产品掩模版中的图形密度分布；

添加模块，用于添加若干冗余图形至所述初始版图的所述第一间隙中，形成版图，所述版图中的图形密度分布与所述产品掩模版中的图形密度分布的差值在一预设范围内；

生成模块，用于所述版图生成测试掩模版。