[发明专利]锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.具有式(A)的锍化合物：

其中，R¹、R²、R³和R⁴各自独立地为可以含有杂原子的C₁-C₂₀一价烃基，p和q各自独立地为0至5的整数，r为0至4的整数，在p＝2至5的情况下，两个相邻的基团R¹可以键合在一起以与它们所连接的碳原子形成环，在q＝2至5的情况下，两个相邻的基团R²可以键合在一起以与它们所连接的碳原子形成环，在r＝2至4的情况下，两个相邻的基团R³可以键合在一起以与它们所连接的碳原子形成环。

2.正型抗蚀剂组合物，其包含(A)含有根据权利要求1所述的锍化合物的猝灭剂。

3.根据权利要求2所述的正型抗蚀剂组合物，其另外包含(B)含有适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的聚合物的基础聚合物。

4.根据权利要求3所述的正型抗蚀剂组合物，其中所述聚合物包含选自具有式(B1)至(B3)的重复单元的至少一种类型的重复单元：

其中，R^A为氢、氟、甲基或三氟甲基，

R¹¹各自独立地为卤素、任选卤化的C₂-C₈酰氧基、任选卤化的C₁-C₆烷基或任选卤化的C₁-C₆烷氧基，

R¹²和R¹³各自独立地为卤素、乙酰氧基、任选卤化的C₂-C₈酰氧基、任选卤化的C₁-C₈烷基、任选卤化的C₁-C₈烷氧基或任选卤化的C₂-C₈烷基羰基氧基，

A¹为单键或C₁-C₁₀烷烃二基，其中醚键可以插入碳-碳键中，t¹为0或1，x¹为0至2的整数，a¹为满足0≤a¹≤5+2x¹-a²的整数，a²为1至3的整数，b¹为0至5的整数，b²为1至3的整数，满足1≤b¹+b²≤6，c¹为0至3的整数，c²为1至3的整数，满足1≤c¹+c²≤4。

5.根据权利要求3所述的正型抗蚀剂组合物，其中所述聚合物另外包含具有式(B4)的重复单元：

其中，R^A为氢、氟、甲基或三氟甲基，

R¹⁴各自独立地为卤素、任选卤化的C₂-C₈酰氧基、任选卤化的C₁-C₆烷基或任选卤化的C₁-C₆烷氧基，

A²为单键或C₁-C₁₀烷烃二基，其中醚键可以插入碳-碳键中，t²为0或1，x²为0至2的整数，d¹为满足：0≤d¹≤5+2x²-d³的整数，d²为0或1，d³为1至3的整数，在d³＝1的情况下，X为酸不稳定性基团，和在d³＝2或3的情况下，X各自独立地为氢或酸不稳定性基团，至少一个X为酸不稳定性基团。