[发明专利]一种掩膜板缺陷的修复方法

权利要求书

1.一种掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，对所述掩膜板的缺陷区域进行修复填充处理之前，在所述缺陷区域周侧的基底上沉积光晕材料层。

2.根据权利要求1所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，所述在所述缺陷区域周侧的基底上沉积光晕材料层包括：

根据所述缺陷区域确定出所述基底上与其对应的相对区域，在所述相对区域上沉积所述光晕材料层，所述相对区域靠近所述缺陷区域；或，在所述掩膜板的掩膜图案周侧的基底上皆沉积所述光晕材料层；

所述缺陷区域形成于所述掩膜图案上。

3.根据权利要求1所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，所述修复填充处理包括：在所述缺陷区域沉积修复材料层。

4.根据权利要求1-3之一所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，在所述缺陷区域周侧的基底上沉积所述光晕材料层之后，在对所述掩膜板的缺陷区域进行修复填充处理之前，还包括：

目标排列，所述目标排列包括对所述掩膜板进行缺陷检测，以确定出所述缺陷的位置。

5.根据权利要求1所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，在所述对所述掩膜板的缺陷区域进行修复填充处理之后，还包括：移除所述光晕材料层。

6.根据权利要求5所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，在所述移除所述光晕材料层之后，还包括：

移除所述缺陷区域外侧的所述修复材料层。

7.根据权利要求6所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，所述移除所述光晕材料层的方法包括：

湿法刻蚀所述光晕材料层；或，

对所述掩膜板进行紫外光照射处理。

8.根据权利要求7所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，对所述掩膜板进行紫外光照射处理时采用的紫外光的波长为130nm-250nm。

9.根据权利要求5-8之一所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，所述基底采用石英、水晶中的一种或多种制成；

所述掩膜板的材料为铬；

所述修复材料层的材料为萘。

10.根据权利要求1所述的掩膜板缺陷的修复方法，其特征在于，通过喷涂光晕材料气体以形成所述光晕材料层。