[发明专利]真空阀监控系统以及方法

权利要求书

1.一种真空阀监控系统，包括：

一真空阀，包括至少一个密封O形环；以及

一压力监控带，位在一真空处理腔室的一配合表面上，其中该压力监控带配置以在该真空处理腔室的该配合表面以及该真空阀上的该至少一个密封O形环的一表面之间进行一压力分布对映，以决定该真空阀的一关闭条件，并且该压力监控带直接接触该至少一个密封O形环的该表面，其中该压力监控带包括：

复数个压力感测元件；以及

一保护涂层，接触该复数个压力感测元件，并隔开该复数个压力感测元件以及该至少一个密封O形环。

2.如权利要求1所述的真空阀监控系统，其中该真空阀还包括一机构，用于打开和关闭该真空阀。

3.如权利要求1所述的真空阀监控系统，其中该压力监控带是可挠的。

4.如权利要求1所述的真空阀监控系统，其中该等压力感测元件的每一者包括电容式感测器、压阻式感测器、以及压电式感测器的至少一者。

5.如权利要求1所述的真空阀监控系统，其中该压力监控带在该真空处理腔室上的该配合表面的位置是根据在该真空阀上的该至少一个密封O形环的位置来配置。

6.如权利要求1所述的真空阀监控系统，还包括：

一数据获取单元，用以分别从该压力监控带的复数个压力感测元件收集复数个信号；

一数据处理单元，用以处理该等信号，从而分别决定复数个压力值；以及

一本地电脑，用以决定该压力分布对映。

7.如权利要求6所述的真空阀监控系统，其中该本地电脑是进一步配置以：

比较该等压力值与复数个预定的压力阈值；以及

决定该真空阀的该关闭条件。

8.一种真空阀监控方法，包括：

关闭一真空处理腔室上的一真空阀，其中该真空阀包括至少一个密封O形环；以及

使用一压力监控带决定该真空阀的一关闭条件，其中该压力监控带配置在该真空处理腔室上的一配合表面上，并且该压力监控带直接接触该至少一个密封O形环的一表面，以在该真空处理腔室上的该配合表面以及该至少一个密封O形环的该表面之间进行一压力分布对映，其中该压力监控带包括：

复数个压力感测元件；以及

一保护涂层，接触该复数个压力感测元件，并隔开该复数个压力感测元件以及该至少一个密封O形环。

9.如权利要求8所述的真空阀监控方法，其中是通过一机构进行关闭该真空阀的该操作。

10.如权利要求8所述的真空阀监控方法，其中该压力监控带是可挠的。

11.如权利要求8所述的真空阀监控方法，其中该等压力感测元件的每一者包括电容式感测器、压阻式感测器、以及压电式感测器的至少一者。

12.如权利要求8所述的真空阀监控方法，其中是根据在该真空阀上的该至少一个密封O形环的位置以配置该压力监控带在该真空处理腔室上的该配合表面的位置。

13.如权利要求8所述的真空阀监控方法，其中该决定操作还包括：

分别从该压力监控带上的该等压力感测元件收集复数个信号；

处理来自该等压力感测元件的该等信号，以分别决定复数个压力值；

基于该等压力值决定该压力分布对映；以及

比较该等压力值以及复数个预定的压力阈值。