[发明专利]基板处理装置和基板处理方法在审
| 申请号： | 201910677246.5 | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN110828330A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 小原隆宪;毛利信彦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/687;B08B1/00;B08B1/02;B08B5/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制微粒向基板的下表面附着的技术。本公开的基板处理装置包括旋转板、多个固定支承部、多个可动支承部以及多个提升销。旋转板能够旋转。多个固定支承部固定地设于旋转板上，沿着旋转板的周向呈圆弧状延伸，并支承基板。多个可动支承部以能够相对于旋转板接近和远离的方式设于旋转板上，并支承基板。多个提升销将多个可动支承部向上方推起。
技术领域
本公开涉及基板处理装置和基板处理方法。
背景技术
以往，公知有通过在旋转板上设置基板而使基板旋转，并且自旋转的基板的上方向基板的上表面供给处理液从而对基板进行处理的基板处理装置(参照专利文献1)。
专利文献1：日本特开2017－183310号公报
发明内容
本公开提供一种能够抑制微粒向基板的下表面附着的技术。
本公开的技术方案的基板处理装置包括旋转板、多个固定支承部、多个可动支承部以及多个提升销。旋转板能够旋转。多个固定支承部固定地设于旋转板上，沿着旋转板的周向呈圆弧状延伸，并支承基板。多个可动支承部以能够相对于旋转板接近和远离的方式设于旋转板上，并支承基板。多个提升销用于将多个可动支承部向上方推起。
根据本公开，能够抑制微粒向基板的下表面附着。
附图说明
图1是表示第1实施方式所涉及的基板处理系统的概略结构的图。
图2是表示第1实施方式所涉及的处理单元的结构的图。
图3是表示把持部和提升销的动作例的图。
图4是第1实施方式所涉及的旋转板的俯视图。
图5是表示图4所示的A－A线向视剖面的一个例子的图。
图6是表示图4所示的A－A线向视剖面的一个例子的图。
图7是表示形成于旋转板的嵌合部和穿过部的形状的一个例子的俯视图。
图8是表示图5所示的B－B线向视剖面的一个例子的图。
图9是表示第2实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图10是表示第3实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图11是表示第4实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图12是表示第4实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图13是表示第5实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图14是表示第6实施方式所涉及的提升销的结构的图。
图15是表示第7实施方式所涉及的提升销的结构的图。
图16是表示第8实施方式所涉及的嵌合部和穿过部的形状的俯视图。
图17是表示第9实施方式所涉及的旋转板和可动支承部的结构的剖视图。
图18是表示第10实施方式所涉及的处理单元的结构的图。
具体实施方式
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