[发明专利]一种等离子体预处理制备氧化钨纳米棒的方法有效

专利信息
申请号: 201910651664.7 申请日: 2019-07-18
公开(公告)号: CN110295342B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 范红玉;倪维元;牛金海 申请(专利权)人: 大连民族大学
主分类号: C23C8/02 分类号: C23C8/02;C23C8/12;B82Y40/00
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 李楠
地址: 116600 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 预处理 制备 氧化钨 纳米 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子体预处理制备氧化钨纳米棒的方法,其特征在于:包括下述步骤:

①采用氢等离子体对钨衬底进行预处理,射频放电功率为3-10kW,放电气压为5-30Pa,预处理时间为10-60min;

②将步骤①处理后的钨衬底在氧气中进行退火处理,退火处理采用激光器快速加热方法,所述激光器为半导体激光器,激光波长为980nm,光纤耦合连续输出,激光光斑形状为圆形光束,真空腔内退火气压为2.0×10-3-1.5×10-1Pa,在温度为380-520℃时退火5-240min,即可在钨衬底上生长出氧化钨纳米棒。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述氢等离子体为纯氢气、或氢气与氩气、氮气、氦气的任一种混合气体。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的钨衬底为含量不低于95wt%的纯钨材料。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所生成的氧化钨纳米棒结构为W18O49,纳米棒的直径为10-50nm,长度为20-500nm。

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