[发明专利]基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种基板，其特征在于，包括：衬底、设置于所述衬底上阵列排布的多个光转换单元；

沿多个所述光转换单元的行方向，任意相邻两个所述光转换单元之间设置有一个反光结构；所述反光结构用于使从所述衬底入射的光发生反射，射向沿多个所述光转换单元的行方向与所述反光结构相对的另一个所述反光结构；和/或，沿多个所述光转换单元的列方向，任意相邻两个所述光转换单元之间设置有一个反光结构；所述反光结构用于使从所述衬底入射的光发生反射，射向沿多个所述光转换单元的列方向与所述反光结构相对的另一个所述反光结构；

所述光转换单元包括依次设置于所述衬底上的第一遮光图案以及量子点图案，所述第一遮光图案在所述衬底上的正投影覆盖所述量子点图案在所述衬底上的正投影。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一遮光图案的材料为反射材料。

3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述反光结构具有倾斜反射面和与所述倾斜反射面相对的镜面反射面；所述倾斜反射面用于使从所述衬底入射的光发生反射，并射向与所述反光结构相对的另一个所述反光结构的所述镜面反射面；所述镜面反射面用于对入射至该镜面反射面的光进行镜面反射。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述反光结构包括第一单元和第二单元；

所述第一单元透明；

相对于所述衬底的厚度方向，所述第一单元与所述第二单元的接触面为倾斜面，该倾斜面为所述倾斜反射面；所述第二单元中垂直于所述衬底且与所述倾斜反射面相对的侧面为所述镜面反射面。

5.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述第二单元的材料为反射材料。

6.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述反光结构还包括设置于所述第一单元和所述第二单元远离所述衬底一侧的第二遮光图案。

7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述第二单元包括第一子单元和第二子单元；所述反光结构中的所述第一子单元与所述第一单元的接触面为所述倾斜反射面；所述第二子单元位于所述第一子单元中与所述倾斜反射面相对的侧面，且所述第一子单元和所述第二子单元的接触面垂直于所述衬底；所述第二子单元中的与所述第一子单元和所述第二子单元的接触面相对的侧面为所述镜面反射面；

所述第二子单元的材料为反射材料。

8.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，相对于所述衬底的厚度方向，所述倾斜反射面的倾斜角度为42°～48°。

9.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述第二单元的厚度为6μm～12μm。

10.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述第二遮光图案的厚度为0.6μm～0.8μm。

11.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板具有多个亚像素区，每个所述亚像素区内设有多个所述光转换单元，且位于同一所述亚像素区内的每个所述光转换单元中的量子点图案发出的光颜色相同；

或者，每个所述光转换单元与每个所述亚像素区一一对应。

12.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述基板。