[发明专利]沉积装置

权利要求书

1.一种沉积装置，包括：

驱动单元，被配置为能在彼此相交的第一方向和第二方向上移动并能围绕平行于第三方向的旋转轴线旋转，所述第三方向垂直于由所述第一方向和所述第二方向限定的平面；

在所述第三方向上连接到所述驱动单元的底端的第一支撑构件；

设置在所述第一支撑构件下方并连接到所述第一支撑构件的磁板；

设置在所述磁板下方的第二支撑构件；

第三支撑构件，连接到所述驱动单元的顶端并被配置为能在所述第三方向上移动；以及

设置在所述第一支撑构件上的多个第一连接单元，所述第一连接单元在所述第三方向上延伸，穿过所述第一支撑构件和所述磁板，并被连接到所述第二支撑构件，

其中所述驱动单元被配置为使所述磁板在所述第一方向和所述第二方向上移动并使所述磁板围绕所述旋转轴线旋转，由此将所述磁板与设置在所述第二支撑构件下方的基板和掩模对准，

其中，当在所述第三方向上测量时，所述第一支撑构件的厚度大于所述磁板和所述第二支撑构件中的每个的厚度，并且所述第三支撑构件的厚度大于所述第一支撑构件的厚度，

其中所述驱动单元包括：

能围绕所述旋转轴线旋转的第一驱动单元；

连接到所述第一驱动单元并能在所述第一方向上移动的第二驱动单元；以及

连接到所述第二驱动单元并能在所述第二方向上移动的第三驱动单元，

其中所述第一驱动单元被布置在凹进区域中，并能在所述凹进区域内在所述第一方向和所述第二方向上移动，所述凹进区域被限定在所述第三支撑构件的底表面的中心区域中，并且

其中所述第二驱动单元的一部分被设置在所述凹进区域中，所述第二驱动单元的其他部分不被设置在所述凹进区域中，并且所述第三驱动单元不被设置在所述凹进区域中。

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中所述第一连接单元通过限定在所述第一支撑构件中的多个第一孔并通过限定在所述磁板中且与所述第一孔重叠的多个第二孔连接到所述第二支撑构件。

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中所述第一连接单元中的每个包括：

设置在所述第一支撑构件上的第一支撑单元，当在所述平面上看时，所述第一支撑单元的面积大于所述第一孔和所述第二孔中的每个的面积；

设置在所述第一支撑单元上的第二支撑单元，当在所述平面上看时，所述第二支撑单元的面积大于所述第一支撑单元的面积；以及

连接到所述第一支撑单元的底部并在所述第三方向上延伸的延伸单元，所述延伸单元通过所述第一孔和所述第二孔连接到所述第二支撑构件。

4.根据权利要求3所述的沉积装置，其中，当所述驱动单元在向下的方向上移动时，所述第二支撑构件在所述向下的方向上移动以接触设置在所述第二支撑构件下方的基板，所述第一支撑构件和所述磁板沿着插入所述第一孔和所述第二孔中的所述延伸单元在所述向下的方向上移动，并且所述磁板被设置为邻近所述第二支撑构件。

5.根据权利要求1所述的沉积装置，进一步包括多个第二连接单元，该多个第二连接单元被设置在所述第一支撑构件与所述磁板之间以将所述第一支撑构件连接到所述磁板。

6.根据权利要求5所述的沉积装置，其中所述第二连接单元包括：

邻近所述第一支撑构件的边缘和所述磁板的边缘设置的多个第一子连接单元；以及

设置在所述第一支撑构件的中心区域和所述磁板的中心区域中的第二子连接单元。

7.根据权利要求6所述的沉积装置，其中所述第一子连接单元比所述第一连接单元更靠近所述第一支撑构件的所述边缘。

8.根据权利要求1所述的沉积装置，其中：

所述掩模包括限定在所述掩模的预定区域中的多个第一对准标记；

所述磁板包括限定在所述磁板的预定区域中的多个第二对准标记；并且

所述基板被设置在所述第二支撑构件与所述掩模之间，并包括限定在所述基板的预定区域中且分别与所述多个第一对准标记重叠的多个第三对准标记。

9.根据权利要求8所述的沉积装置，其中所述驱动单元被配置为使所述磁板在所述第一方向和所述第二方向上移动并使所述磁板围绕所述旋转轴线旋转，由此允许所述第二对准标记与所述第一对准标记和所述第三对准标记重叠。