[发明专利]一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法

权利要求书

1.一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：包括以下步骤：

S100、设定光刻机拼板模式，设定M行N列模式，其中M、N分别为大于0的自然数；

S200、将光刻机拼板按照M行N列模式放在曝光精密平台上；

S300、通过数据处理软件读取单片光刻版图图形信息，加载到内存，并以指定的数据格式保存；根据设定的拼版模式，将单片光刻版图排布组合成M行N列；

S400、使用对位相机以最短路径采集每片光刻机板卡上的对位点信息；

S500、把采集到的对位点信息，按照对位模型计算指定对位模型参数；

S600、将单片光刻机板卡图形组合成M行N列的图形，应用对应的板卡对位参数；

S700、对应用对位参数的图形，处理矢量数据，输出指定格式数据，曝光。

2.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：所述步骤S500把采集到的对位点信息，按照对位模型计算指定对位模型参数；

其中，板卡(i,j)的对位参数为A(i*N+j),其中0≤i＜M，0≤j＜N，i,j分别代表行数和列数。

3.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：所述S600将单片光刻机板卡图形组合成M行N列的图形，应用对应的板卡对位参数；

具体为对应的图形数据为(i,j),与板卡(i,j)一一对应，应用对应参数A(i*N+j)。

4.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：所述S500中对位模型包括相似变换、透视变换或刚性变换。

5.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机拼板曝光的方法，其特征在于：所述S500中对位模型参数包括涨缩、旋转、平移。