[发明专利]量子点膜及其制备方法

说明书

本申请公开了一种量子点膜，包括：量子点层，含有量子点以及聚合物；位于所述量子点层两侧的封装层，所述封装层包括硅烷化试剂和高分子材料。还公开了量子点膜的制备方法，包括：步骤1)、将量子点和聚合物的混合物熔融成流体，然后通过挤压形成流延膜；对所述流延膜拉伸后，冷却压合定型，得到量子点层；步骤2)、在量子点层的两侧制备含有硅烷化试剂的封装层。当外界水汽向量子点层渗透时，硅烷化试剂可与水汽反应以及生成具有高阻水能力的氧化硅或者聚硅氧烷，从而阻隔水汽、增加量子点膜的使用寿命；此外，使用含有硅烷化试剂的高分子材料作为封装层时，具有原料更便宜，制备工艺更简单等优点。

技术领域

本申请属于纳米材料领域，特别涉及一种量子点膜及其制备方法。

背景技术

量子点具有优异的光学性能，可以将其应用于显示、照明等领域。量子点材料用于显示时，对色域等方面具有明显的提升。

量子点材料常常被配制成量子点墨水，通过打印、转印、旋涂等方式形成需要的量子点薄膜。

但是，量子点材料非常容易受到外界环境中氧气、水汽、以及其他因素的影响，而导致其稳定性较差，从而无法满足显示、照明领域对量子点膜稳定性的要求。

现有技术中具有封装层的量子点膜寿命也不是很理想。

发明内容

本申请提供一种稳定性较好的量子点膜以及该量子点膜的制备方法。

根据本申请的一个方面，提供一种量子点膜，包括：量子点层，含有量子点以及聚合物；位于所述量子点层两侧的封装层，所述封装层包括硅烷化试剂和高分子材料。

可选地，所述硅烷化试剂遇水时在所述封装层形成二氧化硅和/或聚硅氧烷。

可选地，所述硅烷化试剂包括正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、双(三甲基硅烷基)三氟乙酰胺、二甲基二氯硅烷、1,1,1,3,3,3-六甲基二硅烷、特丁基二甲基氯硅烷、三甲基氯硅烷、三甲基硅烷基二乙胺、三甲基硅烷咪唑、长链烷基三甲氧基硅烷、长链烷基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中的至少一种。

可选地，所述硅烷化试剂在所述封装层中的重量占比为0.1wt％～10wt％。

可选地，所述聚合物具有晶区和非晶区，所述晶区内高分子链规律排列，所述非晶区内高分子链无序排列，所述量子点分散在所述晶区内。

可选地，所述封装层对水汽的透过率小于0.1g/m²/day。

可选地，所述封装层的厚度在10～100微米之间。

可选地，所述量子点层的厚度在10～50微米之间。

根据本申请的另一个方面，提供一种量子点膜的制备方法，包括：步骤1)、将量子点和聚合物的混合物熔融成流体，然后通过挤压形成流延膜；对所述流延膜拉伸后，冷却压合定型，得到量子点层；步骤2)、在量子点层的两侧制备含有硅烷化试剂的封装层。

可选地，所述封装层的制备过程包括将含有硅烷化试剂的胶水涂覆在量子点层的两侧。

有益效果：本申请通过在量子点层的两侧设置含有硅烷化试剂的封装层，当外界水汽向量子点层渗透时，硅烷化试剂可与水汽反应以及生成具有高阻水能力的氧化硅或者聚硅氧烷，从而阻隔水汽、增加量子点膜的使用寿命；此外，使用含有硅烷化试剂的高分子材料作为封装层时，具有原料更便宜，制备工艺更简单等优点。

附图说明

图1为一个实施例中量子点膜在厚度方向上的剖面示意图；

图2为一个实施例中量子点膜中量子点层在厚度方向上的剖面示意图；