[发明专利]一种阵列基板、显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910486198.1 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110112204B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 田雪雁;李小龙;李良坚;屈财玉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种阵列基板、显示面板和显示装置,以改善现有技术的OLED显示面板在多次弯折后,会出现层间介质层容易断裂,进而导致OLED显示面板失效的问题。所述阵列基板,包括依次位于衬底基板一面的栅极、层间介质结构和源漏极层,其中,所述层间介质结构为包括有机层间介质层和无机层间介质层的叠层结构,所述有机层间介质层位于所述无机层间介质层的面向所述衬底基板的一面。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板和显示装置。

背景技术

平面显示器(Flat Panel Display,FPD)己成为市场上的主流产品,平面显示器的种类也越来越多,如液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitted Diode,OLED)显示器、等离子体显示面板(Plasma DisplayPanel,PDP)及场发射显示器(Field Emission Display,FED)等。

低温多晶硅技术(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)TFT-LCD具有高分辨率、反应速度快、高亮度、高开口率等优点,加上由于LTPS-TFT LCD的硅结晶排列较a-Si有次序,使得电子移动率相对高100倍以上,可以将外围驱动电路同时制作在玻璃基板上,达到系统整合的目标、节省空间及驱动IC的成本。同时由LTPS衍生的AMOLED凭据高画质、移动图像响应时间短、低功耗、宽视角及超轻薄等优点,也成为了未来显示技术的最好选择。随着智能手机、可穿戴设备、车载显示、AR/VR等搭载柔性显示的电子产品快速发展和普及,中小尺寸产品市场呈现旺盛的需求态势,特别是以AMOLED技术为代表的高性能新型显示技术,正以其在显示性能、轻薄、可弯曲、可折叠等方面独有的性能优势,加速进军高端智能手机市场。

但目前OLED显示面板在多次弯折后,会出现层间介质层容易断裂,进而导致OLED显示面板失效的问题。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、显示面板和显示装置,以改善现有技术的OLED显示面板在多次弯折后,会出现层间介质层容易断裂,进而导致OLED显示面板失效的问题。

本发明实施例提供一种阵列基板,包括依次位于衬底基板一面的栅极、层间介质结构和源漏极层,其中,所述层间介质结构为包括有机层间介质层和无机层间介质层的叠层结构,所述有机层间介质层位于所述无机层间介质层的面向所述衬底基板的一面。

在一种可能的实施方式中,所述有机层间介质层的厚度大于所述无机层间介质层的厚度。

在一种可能的实施方式中,还包括位于所述衬底基板与所述栅极之间的栅极绝缘层,以及位于所述衬底基板与所述栅极绝缘层之间的有源层;

所述栅极绝缘层具有开口朝向所述层间介质结构的第一凹槽结构,所述有机层间介质层填充所述第一凹槽结构,所述第一凹槽结构在所述衬底基板的正投影与所述有源层和所述栅极在所述衬底基板的正投影互不交叠。

在一种可能的实施方式中,所述第一凹槽结构贯穿所述栅极绝缘层。

在一种可能的实施方式中,还包括位于所述衬底基板与所述有源层之间的缓冲层,所述缓冲层在与所述第一凹槽结构对应的位置具有开口朝向所述栅极绝缘层的第二凹槽结构,所述有机层间介质层填充所述第二凹槽结构。

在一种可能的实施方式中,所述第二凹槽结构贯穿所述缓冲层。

在一种可能的实施方式中,所述第一凹槽结构呈周期性分布,或者,所述第一凹槽结构呈非周期性分布。

在一种可能的实施方式中,所述第一凹槽结构在所述衬底基板的正投影为正方形、长方形、或圆形。

本发明实施例还提供一种显示面板,包括如本发明实施例提供的所述阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910486198.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top