[发明专利]一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统有效

专利信息
申请号: 201910404828.6 申请日: 2019-05-15
公开(公告)号: CN110085500B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 唐绍根;黄磊;邓建国 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十四研究所
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01L21/265
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 代理人: 刘佳
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 离子 注入 剂量 控制 精度 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种提高离子注入剂量控制精度的方法,其特征在于,包括:

获取束流束斑的径向分布M(y);

根据所述束斑的径向分布M(y),计算束斑质心到靶盘中心的距离,即束斑的质心值R;

根据公式计算靶盘径向扫描速度V,其中,K=1/(2πqn),q表示单位电荷量,q=1.6×10-19库仑,n表示电荷量,I表示总电流,等于靶盘的靶电流和束斑通过靶盘上束斑采集孔的孔电流之和,R表示束斑的质心值,φ表示预设离子注入剂量;

驱动所述靶盘以所述径向扫描速度V做径向扫描,同时驱动靶盘旋转做圆环扫描。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取束流束斑的径向分布M(y),具体包括:

获取所述靶盘的靶电流和束斑通过靶盘上束斑采集孔的孔电流;

根据所述靶电流和孔电流获取束流束斑的径向分布M(y)。

3.一种提高离子注入剂量控制精度的系统,其特征在于,包括:

束斑采集单元,用于获取束流束斑的径向分布M(y);

质心计算单元,用于根据所述束斑的径向分布M(y),计算束斑质心到靶盘中心的距离,即束斑的质心值R;

扫描速度计算单元,用于根据公式计算靶盘径向扫描速度V,其中,K=1/(2πqn),q表示单位电荷量,q=1.6×10-19库仑,n表示电荷量,I表示总电流,等于靶盘的靶电流和束斑通过靶盘上束斑采集孔的孔电流之和,R表示束斑的质心值,φ表示预设离子注入剂量;

径向扫描控制器,用于控制径向扫描机构驱动所述靶盘以所述径向扫描速度V做径向扫描;

旋转电机,用于驱动所述靶盘旋转做圆环扫描。

4.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述系统还包括:

靶电流采集单元,用于获取所述靶盘的靶电流;

孔电流采集单元,用于获取所述束斑通过靶盘上束斑采集孔的孔电流;

所述束斑采集单元根据所述靶电流和孔电流获取束斑的径向分布M(y)。

5.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述靶盘上设置有多个硅片,多个硅片在靶盘上呈圆环布置,所述圆环与靶盘旋转中心共圆心。

6.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述束斑采集单元是法拉第杯。

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