[发明专利]画素阵列检测基板及制作方法、检测画素阵列基板的方法

权利要求书

1.一种画素阵列检测基板，其特征在于，包括：

基板；

画素阵列电路设置于所述基板上；

绝缘保护层设置于所述画素阵列电路上；

栅极驱动芯片电连接于所述画素阵列电路；

电压检测芯片电连接于所述画素阵列电路；以及

微处理芯片电连接于所述电压检测芯片，其中，所述画素阵列电路是以待测的画素阵列基板的掩模来制作。

2.如权利要求1所述的画素阵列检测基板，其特征在于，所述绝缘保护层具有平坦的表面。

3.如权利要求2所述的画素阵列检测基板，其特征在于，所述画素阵列电路具有与待测的画素阵列基板相同结构的画素电极与晶体管电路。

4.如权利要求3所述的画素阵列检测基板，其特征在于，所述画素阵列电路具有多条栅极线与多条数据线，所述栅极驱动芯片电连接于所述多条栅极线，所述电压检测芯片电连接于所述多条数据线。

5.一种画素阵列检测基板的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：

提供基板；

于所述基板上制作画素阵列电路；

提供绝缘保护层设置于所述画素阵列电路上；

提供栅极驱动芯片电连接于所述画素阵列电路；

提供电压检测芯片电连接于所述画素阵列电路；以及

提供微处理芯片电连接于所述电压检测芯片，其中，所述画素阵列电路是以待测的画素阵列基板的掩模来制作。

6.如权利要求5所述的画素阵列检测基板的制作方法，其特征在于，提供绝缘保护层设置于所述画素阵列电路上的步骤还包括对绝缘保护层进行表面平坦化的步骤。

7.如权利要求6所述的画素阵列检测基板的制作方法，其特征在于，于所述基板上制作画素阵列电路的步骤中，还包括于所述基板上制作与待测的画素阵列基板相同结构的画素电极与晶体管电路的步骤。

8.如权利要求7所述的画素阵列检测基板的制作方法，其特征在于，所述画素阵列电路具有多条栅极线，提供栅极驱动芯片电连接于所述画素阵列电路的步骤中，还包括将所述栅极驱动芯片电连接于所述多条栅极线的步骤。

9.如权利要求7所述的画素阵列检测基板的制作方法，其特征在于，所述画素阵列电路具有多条数据线，提供电压检测芯片电连接于所述画素阵列电路的步骤中，还包括将所述电压检测芯片电连接于所述多条数据线的步骤。

10.一种检测画素阵列基板的方法，其特征在于，包括下列步骤：

提供画素阵列检测基板置于待测的所述画素阵列基板上；

通过对位记号对准所述画素阵列检测基板与所述画素阵列基板；

将待测的所述画素阵列基板的画素电极充电；以及

逐行打开所述画素阵列检测基板上的晶体管并记录每一列读取的电压值，其中，所述画素阵列检测基板的所述画素阵列电路具有与待测的画素阵列基板相同结构的画素电极与晶体管电路。