[发明专利]原子层沉积设备

权利要求书

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括：

工艺腔室，一侧形成开口部且具有一定的内部空间，从而实施原子层沉积工艺；

多个工艺用盒，平行地装载以多列配置的多个基板，使各基板之间的间隔成为层状流动，以装载所述多个基板的状态被装载到所述工艺腔室内部而进行原子层沉积工艺，工艺完成后被卸载到外部；

气体供给装置，设置在所述工艺腔室的开口部侧，对装载到所述盒的所有基板，向平行于所述基板的排列方向的方向，对所述基板的前端部供给气体，以使得各基板之间的空间形成层状流动；

排气侧层状流动形成部，设置在所述工艺腔室中所述开口部的相反侧，使得由所述气体供给装置喷射的工艺气体的层状流动保持到所述基板的后端部；

排气装置，设置在所述工艺腔室中所述排气侧层状流动形成部后侧，吸入所述工艺腔室内部的气体并排气；

加热装置，以围住所述工艺腔室的外面的方式形成在所述工艺腔室的外部，加热所述工艺腔室；以及

门，打开和关闭所述开口部。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述加热装置是围住所述工艺腔室的多个套式加热器。

3.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，

在所述门外部或内部还具有能够加热所述工艺腔室的前面部的前面加热装置。

4.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述气体供给装置贯通所述工艺腔室中邻接所述开口部的侧壁或棱角而形成，是对所述开口部整体宽度均匀地扩散气体并供给的多个气体供给口。

5.根据权利要求4所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述多个气体供给口形成在所述工艺腔室中邻接所述开口部的棱角，向第一棱角以及其对角线方向的第二棱角连接并设置管道，以供给原料气体和吹扫气体，向邻接所述第一棱角的第三棱角以及其对角线方向的第四棱角连接并设置管道，以供给反应气体和吹扫气体。

6.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

还具有气体层状流动形成部，位于所述工艺腔室中装载到所述盒的基板前端部，从而诱导由所述气体供给装置喷射的工艺气体而使其在到达基板之前形成层状流动。

7.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述工艺用盒具备形成在所述工艺用盒的后端部的排气侧层状流动形成部或形成在前端部的气体层状流动形成部中的其中一个，或者两者都具备。

8.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

还具有附加气体供给装置，所述工艺腔室的侧壁或棱角中被装入所述工艺腔室内部的多个基板中特定的基板与基板之间的地点而供给工艺气体。

9.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

以上下方向或左右方向具有两个以上的所述工艺腔室。

10.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

在所述工艺腔室内部，以上下方向或左右方向放置两列以上的所述工艺用盒。

11.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述工艺腔室的开口部与所述门之间还具有多个密封部件。

12.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

所述密封部件设置部分还具有冷却装置。

13.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，

在装载所述工艺用盒的状态下，在被装载到所述工艺用盒的基板的上端与所述工艺腔室内壁之间以及所述基板下端与工艺腔室内壁之间形成间隔空间。