[发明专利]一种低损耗大有效面积色散位移单模光纤及其制造方法

说明书

本发明提供的是一种低损耗大有效面积色散位移单模光纤及其制造方法。其纤芯采用Ge和Cl掺杂，第一、三包层是浅掺F包层，第二包层是Ge、F共掺杂。光纤1550nm的模场直径是9.6±0.4μm，有效面积大于75μm²，零色散波长小于1500nm，在1530nm～1625nm的色散值在2.0～8.0ps/nm/km范围，1550nm的色散斜率≤0.06ps/nm²/km，1550nm的色散值是3.0ps/nm/km至5.0ps/nm/km之间；光纤截止波长小于1500nm。在1550nm弯曲损耗在16mm弯曲半径下1圈不大于0.01dB，光纤在1550nm波长的衰耗小于或等于0.185dB/km。

(一)技术领域

本发明涉及一种低损耗大有效面积色散位移单模光纤及其制造方法，其主要应用于高速率城域网光纤通信传输领域。

(二)背景技术

光纤通信的传输容量一直在持续提高，用户数持续在增长。长途传输干线主要解决的是运营商网络规模。但是城域网是运营商的高价值业务网络，包含高速上网业务、互动游戏业务、政府服务业务、网络电视业务、企业/团体服务业务等。

城域网建设的光纤通信网络是运营商重点投资内容之一，其对光纤要求价格便宜，适合多种传输方案。因此，一种低损耗色散位移大有效面积单模光纤可以满足这种需求，其主要性能是改善C+L带色散特性，使其在城域网内适合SDH和DWDM的传输。同时，要降低网络建设成本，增大光纤在1550nm的有效面积和降低光纤损耗，使得城域网少建或不建中继放大，可以大幅度降低网络造价，满足实际需求。

文献CN00815954.8公开了一种有效面积大的色散位移光纤，其在1470nm到1625nm有1.0ps/nm/km至16.0ps/nm/km的色散值。在1550nm的有效面积大于70μm²，在1550nm处的衰耗小于0.20dB/km。该光纤在C+L带的色散较大，且色散斜率大，需要专门的色散补偿光纤来补偿长距离传输带来的脉冲展宽，但是色散补偿带来系统损耗的增加，导致整个系统造价的增大。

文献CN02809096.9中公开了一种低色散斜率的色散位移光纤，其1530nm到1625nm有2.5ps/nm/km至8.6ps/nm/km的色散值。在1550nm的模场直径约为8.3±0.6μm，在1550nm处的衰耗小于0.22dB/km。在1550nm的色散斜率≤0.05ps/nm²/km。该设计优化了色散，但是在1550nm的有限面积较小，小于60μm²，且剖面设计复杂，增加了制造成本。

文献CN03119080.4中公开了一种超大有效面积低色散斜率非零色散位移光纤，该光纤设计有5个纤芯分层和1个包层共6层设计。光纤在1550nm的色散值在8ps/nm/km至10ps/nm/km之间。在1550nm的有效面积大于95μm²，在1550nm处的衰耗小于0.22dB/km。在1550nm的色散斜率≤0.06ps/nm²/km。该光纤在1550nm的色散值非常大，达到10ps/nm/km。

文献CN03125581.7中公开了一直色散位移光纤，其零色散点非常高，在1640nm以上。其在1530nm到1625nm有-1.0ps/nm/km至-10.0ps/nm/km的色散值，在1550nm的有效面积是40～70μm²。这个设计因为零色散波长非常大，导致有效面积非常小。

文献CN03823169.7中公开了一种色散位移光纤，其零色散波长小于1450nm，在1550nm的有效面积大于60μm²，在1550nm的色散斜率≤0.07ps/nm²/km。光纤在1550nm的色散值是4ps/nm/km至10ps/nm/km之间。其色散较大，网络建设时需要色散补偿，且有效面积偏小。