[发明专利]一种低损耗大有效面积色散位移单模光纤及其制造方法在审
申请号: | 201910341229.4 | 申请日: | 2019-04-25 |
公开(公告)号: | CN110058350A | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 成煜;邓洪昌;徐荣辉;苑立波 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G02B6/036 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541004 广西*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有效面积 色散位移单模光纤 低损耗 包层 色散 光纤 光纤截止波长 零色散波长 色散斜率 弯曲损耗 共掺杂 波长 衰耗 纤芯 制造 掺杂 | ||
1.一种低损耗大有效面积色散位移单模光纤,光纤的纤芯半径r1为2.5~3.5μm,芯层相对折射率差△n1为+0.45%~+0.55%,芯层掺杂为Cl和Ge;第一包层半径r2为4.0~5.0μm,相对折射率差△n2为-0.08%~-0.11%,第一包层掺杂为F掺杂;第二包层半径r3为7.5~9μm,相对折射率差△n3为+0.12%~+0.17%,第二包层掺杂为Ge、F共掺杂;第三包层半径r4为10~12μm,相对折射率差△n4为-0.03%~-0.05%,第三包层掺杂为F掺杂;最外层为纯二氧化硅。
2.按权利要求1所述的光纤采用PCVD工艺制造,纤芯包含四种元素,分别是Si,O,Ge和Cl;其中Cl的重量比占纤芯玻璃重量的0.5%到0.8%,GeO2的摩尔比占纤芯的8.5%到10.5%。
3.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:光纤的零色散波长小于1500nm。
4.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:光纤在1550nm的色散值在3~5ps/nm/km范围内;在1530nm~1625nm的色散值是2.0ps/nm/km至8.0ps/nm/km之间,1550nm的色散斜率≤0.06ps/nm2/km。
5.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:光纤在1550nm的模场直径是9.6±0.4μm,有效面积大于75μm2。
6.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:光纤在1550nm波长的衰耗小于或等于0.185dB/km。
7.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:光纤拉丝速度大于1200m/min,优选的拉丝速度为1600m/min。
8.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:所述光纤的截止波长小于或等于1500nm。
9.按权利要求1所述的光纤,其特征在于:所述光纤的弯曲损耗在1550nm波长处,以16mm弯曲半径1圈则小于或等于0.01dB。
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