[发明专利]用于盖与喷嘴上的稀土氧化物基涂层的离子辅助沉积

权利要求书

1.一种用于处理腔室的腔室部件，包括：

陶瓷主体，所述陶瓷主体具有至少一个表面，所述至少一个表面具有大约8-16微英寸的第一平均表面粗糙度；以及

在所述陶瓷主体的所述至少一个表面上的共形保护层，其中，所述共形保护层包含抗等离子体稀土氧化物膜，所述抗等离子体稀土氧化物膜是从由Y₄Al₂O₉、Er₂O₃、Gd₂O₃、YF₃、Er₄Al₂O₉、ErAlO₃、Gd₄Al₂O₉、GdAlO₃、Nd₄Al₂O₉、NdAlO₃、第一陶瓷化合物和第二陶瓷化合物组成的群组中选择的，所述第一陶瓷化合物包含Y₄Al₂O₉与Y₂O₃-ZrO₂固溶体的混合物，所述第二陶瓷化合物包含Y₂O₃、ZrO₂、Er₂O₃、Gd₂O₃和SiO₂的混合物，所述共形保护层在所述至少一个表面上面具有小于300μm的基本上均匀的厚度，并且所述共形保护层具有小于所述第一平均表面粗糙度的第二平均表面粗糙度。

2.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层基本上由Y₄Al₂O₉和Er₄Al₂O₉组成。

3.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层具有10μm-30μm的厚度。

4.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层基本上由Er₂O₃组成。

5.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层具有以下组分：40-45mol％的Y₂O₃、5-10mol％的ZrO₂、35-40mol％的Er₂O₃、5-10mol％的Gd₂O₃、和5-15mol％的SiO₂。

6.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层的孔隙度小于1％，并且其中所述共形保护层具有小于8微英寸的抛光后粗糙度。

7.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述所述陶瓷主体是块状烧结陶瓷体，并且包含以下各项中的至少一者：Y₂O₃或包含Y₄Al₂O₉与Y₂O₃-ZrO₂固溶体的所述第一陶瓷化合物。

8.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层包含共形保护层叠层，所述共形保护层叠层包含在所述至少一个表面上的第一抗等离子体的稀土氧化物膜以及在所述第一抗等离子体的稀土氧化物膜上的第二抗等离子体的稀土氧化物膜，其中，所述第一抗等离子体的稀土氧化物膜包含着色剂，所述着色剂使所述第一抗等离子体的稀土氧化物膜具有与所述第二抗等离子体的稀土氧化物膜不同的颜色。

9.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述共形保护层基本上由YF₃组成。