[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 201910265634.2 | 申请日: | 2019-04-03 |
公开(公告)号: | CN109799642B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 付帮然;李兴亮;陈华斌;高英强;宋勇志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 面板 | ||
1.一种显示基板,包括显示区以及覆盖至少部分所述显示区的反射层,其中,
所述反射层的位于所述显示区且面向所述显示基板的显示侧的表面为超表面,以及所述超表面包括多个散布的具有超材料特性的凸起结构,
其中,所述反射层还包括基体层,所述基体层的面向所述显示基板的显示侧的表面具有多个凹槽,
所述凸起结构的部分位于所述凹槽并从所述基体层的表面凸出。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,
所述凸起结构包括侧表面,所述侧表面的至少部分与平行于所述反射层所在面的夹角不小于90度。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,
在平行于所述反射层所在面的方向上,相邻所述凸起结构的间距小于或等于所述凸起结构的尺寸。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其中,
在平行于所述反射层所在面的方向上,所述凸起结构的尺寸为100~200纳米。
5.根据权利要求2所述的显示基板,其中,
在垂直于所述反射层所在面的方向上,所述凸起结构的截面形状包括三角形、正梯形和部分圆形之一或组合。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其中,
所述凸起结构的形状为球体、球缺或球冠。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其中,
所述基体层为多孔材料层。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其中,
所述基体层为多孔氧化铝层或多孔氧化钛层。
9.根据权利要求1-6任一所述的显示基板,还包括多个阵列排布在显示区的子像素,
其中,每个所述子像素中设置有像素电极,
所述像素电极设置为面向所述反射层的所述超表面,或者位于所述反射层的与所述超表面背离的一侧。
10.一种显示面板,包括权利要求1-9任一所述的显示基板。
11.根据权利要求10所述的显示面板,还包括对置基板和液晶层,其中,
所述对置基板与所述显示基板对盒,所述液晶层位于所述对置基板与所述显示基板中间。
12.一种显示基板的制备方法,其中,所述显示基板包括显示区,所述方法包括:
形成覆盖至少部分所述显示区的反射层,其中,所述反射层的面向所述显示基板的显示侧的表面形成超表面,所述超表面形成有多个散布的具有超材料特性的凸起结构,
其中,形成所述反射层包括:
形成基体层,并在所述基体层的表面形成多个凹槽;
在所述基体层上施加纳米球体,并使得所述纳米球体的部分位于所述凹槽,
其中,所述纳米球体的凸出于所述凹槽的部分为所述凸起结构。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其中,形成具有所述凹槽的基体层并施加所述纳米球体包括:
沉积金属材料以形成金属薄膜,氧化处理所述金属薄膜的表面部分以形成具有多孔的第一金属氧化层,其中,未被氧化的部分为所述基体层;
去除所述第一金属氧化层,其中,所述基体层的表面形成对应所述多孔的多个所述凹槽;以及
在所述基体层表面施加含有纳米球体的悬浊液,蒸发所述悬浊液以使得所述纳米球体嵌入所述凹槽。
14.根据权利要求13所述的制备方法,其中,形成具有所述凹槽的基体层并施加所述纳米球体还包括:
施加所述悬浊液之前,氧化所述基体层的表面,以增加所述凹槽的深度;和/或
利用腐蚀液刻蚀所述基体层的表面,以增加所述凹槽的直径。
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