[发明专利]基于LOD的模型制作方法及装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种基于LOD的模型制作方法，其特征在于，包括：

获取高阶模型以及对应的贴图，并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图；

基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型；

根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV；

根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型后，所述方法还包括：

将所述高阶模型及低面数模型至于同一坐标系中并使其轴心点重合；

计算所述低面数模型与高阶模型的相似度是否满足预设阈值，以判断所述低面数模型是否满足预设规则。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模型包括多个建筑物模型，所述方法还包括：

按预设规则对所述的多个建筑物模型进行分类，以使同一类别的建筑物模型使用同一贴图。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述公共贴图包括不同建筑物模型之间的公共贴图，和/或高阶、低阶建筑物模型的公共贴图。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

将多个所述建筑物模型的贴图拼接至一张贴图中。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述模型包括多个建筑物模型；所述高阶模型为LOD1级模型，所述低阶模型为LOD2级模型；所述方法还包括：

获取材质及贴图相同的多个LOD2级模型，将相邻的多个LOD2级模型使用一代理模型合并；其中，所述代理模型与所述LOD2级模型材质及贴图相同。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述高阶模型为LOD0级模型，对应低阶模型为LOD1级模型；或者所述高阶模型为LOD1级模型，对应低阶模型为LOD2级模型。

8.一种基于LOD的模型制作装置，其特征在于，包括：

贴图划分模块，用于获取高阶模型以及对应的贴图，并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图；

低面数模型制作模块，用于基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型；

UV分配模块，用于根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV；

烘焙模块，用于根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。

9.一种存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现根据权利要求1至7中任一项所述的基于LOD的模型制作方法。

10.一种电子终端，其特征在于，包括：

处理器；以及

存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1至7中任一项所述的基于LOD的模型制作方法。