[发明专利]LPCVD炉管法兰温控装置及LPCVD炉设备有效
| 申请号: | 201910257884.1 | 申请日: | 2019-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN111763927B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
| 发明(设计)人: | 杨力勇;沈震 | 申请(专利权)人: | 上海先进半导体制造有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
| 代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;张冉 |
| 地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | lpcvd 炉管 法兰 温控 装置 设备 | ||
1.一种LPCVD炉管法兰温控装置,其特征在于,包括温度传感器、温度控制器、第一继电器、固态继电器、电磁阀和冷却流体管路,所述温度传感器用于检测所述法兰的温度,所述温度控制器的输入端连接所述温度传感器,以获取温度传感数据,所述温度控制器的输出端经由第一继电器的第一触头连接至所述固态继电器的输入端,其中所述第一触头为常开触头,所述固态继电器的输出端连接至布置于所述冷却流体管路中的所述电磁阀,所述电磁阀为常开电磁阀;
其中,所述温度控制器配置为,根据所述温度传感数据控制所述固态继电器的闭合和断开;
所述温度控制器配置为,当所述温度传感数据显示的温度低于预设的第一低温值时,控制所述固态继电器闭合,从而使得所述电磁阀关闭或者关小,当所述温度传感数据显示的温度不低于预设的第一低温值时,控制所述固态继电器断开,从而所述电磁阀保持打开状态;
所述LPCVD炉管法兰温控装置还包括低压稳压电源,所述低压稳压电源为所述温度控制器供电;
所述LPCVD炉管法兰温控装置还包括第二继电器,所述第二继电器连接至所述低压稳压电源,并用于在检测到电源故障时向所述LPCVD炉的控制计算机发出报警。
2.如权利要求1所述的LPCVD炉管法兰温控装置,其特征在于,所述LPCVD炉管法兰温控装置还包括漏电保护开关,所述低压稳压电源经由所述漏电保护开关接入交流电源。
3.如权利要求1所述的LPCVD炉管法兰温控装置,其特征在于,所述温度控制器还配置为,当所述温度传感数据显示的温度高于预设的第一高温值时,经由第一继电器的第二触头,开启报警单元以发出报警。
4.如权利要求1所述的LPCVD炉管法兰温控装置,其特征在于,所述冷却流体管路为冷却水管路。
5.如权利要求1所述的LPCVD炉管法兰温控装置,其特征在于,所述温度传感器为测温电偶。
6.一种LPCVD炉设备,其特征在于,包括如权利要求1-5中任意一项所述的LPCVD炉管法兰温控装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





