[发明专利]一种结构超滑器件及其制备方法在审
申请号: | 201910233562.3 | 申请日: | 2019-03-26 |
公开(公告)号: | CN111747371A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 郑泉水;胡恒谦 | 申请(专利权)人: | 深圳清力技术有限公司 |
主分类号: | B81B5/00 | 分类号: | B81B5/00;B81C3/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 陈超 |
地址: | 518118 广东省深圳市坪山区龙田街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 结构 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种超滑结构,包括基底和多个超滑片,所述多个超滑片连接在所述基底上,其特征在于:所述连接使得所述超滑片的超滑面距基底表面的高度可调节。
2.如权利要求1所述的超滑结构,其特征在于:所述连接通过以下方式实现:通过基底或者连接部件的弹性或塑形变形来调节所述高度,或者通过所述基底上预留的调整空间来调节所述高度。
3.如权利要求2所述的超滑结构,其特征在于:所述连接通过以下方式实现:通过弹性连接材料将所述多个超滑片连接到所述基底上,然后通过高度调整部件调节所述高度后固化所述弹性连接材料,优选的,所述弹性连接材料为环氧树脂胶、聚丙酯胶、丙烯酸酯胶,所述弹性连接材料的体积为10-7nl~10-3nl,优选10-6nl~10-4nl;或者在所述基底上设置通孔,在所述多个超滑片上分别设置连接部件,连接部件对齐所述通孔,通过高度调整部件调整所述高度后将超滑片固定在所述通孔中,或者通过基底的弹性或塑形变形来调节所述高度。
4.如权利要求3所述的超滑结构,其特征在于:所述高度调整部件的上表面可以为平面或光滑曲面。
5.如权利要求1-4中任一所述的超滑结构,其特征在于:所述超滑片至少有一个超滑面,所述超滑面是原子级光滑的二维材料,所述超滑面的直径为1μm~100μm,每个超滑片厚度为100nm~10μm,不同超滑面的直径或不同超滑片的厚度可相等或不等,优选的,所述超滑片还具有连接层,所述超滑片材料优选为石墨或二硫化钼,更加优选为片状单晶石墨或片状单晶二硫化钼,所述连接层的材料优选为二氧化硅。
6.如权利要求1-5中任一所述的超滑结构,其特征在于:所述基底具有一定的平整度和刚度,使得所述超滑片在与工作表面接触或相对运动时,所述基底不与所述工作表面接触,所述基底材料优选为硅或云母或金属片。
7.一种制备超滑结构的方法,包括:
步骤1,提供基底;
步骤2,制备多个超滑片;
步骤3,将所述多个超滑片转移并连接至所述基底上;
其特征在于:步骤3的所述连接使得所述多个超滑片的超滑面距基底表面的高度可调节。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于:
所述基底通过微加工制备,所述基底具有一定的平整度和刚度,使得所述超滑片在与工作表面接触或相对运动时,所述基底不与工作表面接触,所述基底材料优选为硅或云母或金属片,所述基底上可以微加工有通孔或盲孔。
9.如权利要求7或8所述的方法,所述步骤2包括:
步骤2-1,在高定向热解石墨上至少覆盖光刻胶,所述光刻胶优选为通过旋转涂布的方式进行覆盖;
步骤2-2,构图所述光刻胶,保留多个光刻胶岛;
步骤2-3,刻蚀所述高定向热解石墨,以便去除未被光刻胶保护的部分高定向热解石墨,从而形成多个岛状结构,所述刻蚀优选是反应离子刻蚀;
步骤2-4,检测所述多个岛状结构是否具有超滑面,具有超滑面的所述岛状结构即为超滑片。
10.如权利要求7-9中任一所述的方法,其特征在于:所述步骤3包括:
将所述超滑片转移至带有弹性连接材料的所述基底上,通过所述弹性连接材料将所述多个超滑片连接到所述基底上,然后通过高度调整部件调节所述高度后固化所述弹性连接材料,优选的,所述弹性连接材料为环氧树脂胶、聚丙酯胶、丙烯酸酯胶,所述弹性连接材料的体积为10-7nl~10-3nl,优选10-6nl~10-4nl;或者在所述基底上设置通孔,在所述多个超滑片上分别设置连接部件,连接部件对齐所述通孔,通过高度调整部件调整所述高度后将超滑片固定在所述通孔中,或者通过基底的弹性或塑形变形来调节所述高度。
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