[发明专利]一种SrTiO3 有效
申请号: | 201910191986.8 | 申请日: | 2019-03-14 |
公开(公告)号: | CN109942291B | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 吕明;贺凡 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C04B35/47 | 分类号: | C04B35/47;C04B35/622;C04B35/64;H01G4/12 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;江裕强 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 srtio base sub | ||
本发明公开了一种SrTiO3基晶界层陶瓷电容器及其制备方法,电容器的材质成分包括基本原料和无机单晶颗粒,单晶颗粒的加入量上限为基本原料总质量的20%,基本原料按质量百分比包括SrTiO394‑98%、Nb2O50.05‑1%、La2O30.05‑1%、SiO20.5‑2%、MgO0.2‑1%、Al2O30.2‑1%和TiO2 0.1‑1%,且基本原料的组分和为100%。将上述原料混均流延成型,还原气氛中烧成,然后在表面涂覆氧化物,空气中氧化烧成,施加电极,得到SrTiO3晶界层电容器。本发明直接将无机单晶颗粒加入流延成型浆料中,在还原烧成中促进了晶粒的均匀生长,有益于电容器耐电压可靠性的提高。
技术领域
本发明属于陶瓷制备技术领域,具体涉及一种SrTiO3基晶界层陶瓷电容器及其制备方法。
背景技术
晶界层陶瓷材料是一种利用精确的掺杂工艺与技术,通过还原气氛烧结使电介质陶瓷材料半导化,然后利用氧化剂有选择地氧化晶界,用晶界作为电容器介质的新型介质材料。
SrTiO3晶界层材料具有介电常数高,其微波片式单层电容器可满足器件小型化的发展趋势。但是,目前国内晶界层陶瓷材料耐电压普遍偏低,使用晶界层介质基片生产的电容器耐电压可靠性不足(一般只具有数百小时的可靠性),这大大制约了晶界层电容器在可靠性要求苛刻的领域的应用。
从晶体生长角度来看,晶粒大小不均匀对烧结进程和最终产品的性能有着重要的影响,导致晶界层电容器陶瓷耐电压可靠性降低,不利于实际应用。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的上述不足,并提供一种SrTiO3基晶界层陶瓷电容器及其制备方法,能够在烧成时促进陶瓷晶粒生长的均匀性,获得耐电压可靠性较好的SrTiO3晶界层陶瓷电容器。
本发明的目的通过下述技术方案实现。
一种SrTiO3基晶界层陶瓷电容器,所述电容器的材质成分包括基本原料和外掺杂无机单晶颗粒,其中所述单晶颗粒的加入量上限为基本原料总质量的20%,所述基本原料按质量百分比包括SrTiO3 94-98%、Nb2O5 0.05-1%、La2O3 0.05-1%、SiO2 0.5-2%、MgO0.2-1%、Al2O3 0.2-1%和TiO2 0.1-1%,且所述基本原料的组分之和为100%。
优选的,当外掺杂的无机单晶颗粒为SrTiO3时,无机单晶颗粒的加入量上限为基本原料总质量的20%。
优选的,当外掺杂的无机单晶颗粒为BaTiO3时,无机单晶颗粒的加入量上限为基本原料总质量的15%。
优选的,当外掺杂的无机单晶颗粒为Al2O3或SiO2时,无机单晶颗粒的加入量上限为基本原料总质量的5%。
优选的,外掺杂单晶颗粒的中位粒径在1-20μm范围内。
所述SrTiO3基晶界层陶瓷电容器采用两步烧结方法制备,具体包含以下步骤:
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