[发明专利]一种离子植入机旋转角度监控系统

说明书

本发明公开了一种离子植入机旋转角度监控系统，包括高真空腔体部分与大气部分，所述高真空腔体部分的下端设置有大气部分，所述高真空腔体部分与大气部分通过套接连接，所述大气部分的下端设置有原机台柔性电缆，本发明一种离子植入机旋转角度监控系统利用一个软件硬件结合的系统来对最后的旋转吸盘的传动齿轮进行检测并得到数据传输给计算机系统，系统利用SPC软件来根据不同的旋转角度设置不同的限制，一旦超过范围则软件将给信号主机台产生报警，然后工程师根据报警去排查并解决问题，解决了离子植入机旋转角度监控中的ROPLAT旋转角度无法在线实时监控，避免了由于没有实时检测导致的大批晶圆报废的问题。

技术领域

本发明属于半导体晶圆生产相关技术领域，具体涉及一种离子植入机(APPLY/VARIAN E220/500系列离子注入机)Roplat旋转角度监控系统。

背景技术

离子植入机用于半导体晶圆生产，是晶圆生产的关键机台。ROPLAT部件则是负责四象限注入的运动部件，四象限注入也是芯片生产过程中的关键工艺，晶圆在传输到静电吸盘上后由ROPLAT部件带动吸盘转动从而实现四个象限的角度注入。

现有的APPLY/VARIAN E220/500系列离子注入机Roplat旋转角度监控技术存在以下问题：由于ROPLAT部件位于真空腔体内并且附近部件多且精密，旋转的角度要求精密，但是由于这个位置反馈位于电机端，而从电机到最后的转动吸盘中间还有很多连接部件，一旦这中间任何一个部件出现问题，或者编码器缺相等就会造成吸盘实际转动位置变化且机台没有实时检测，也不会发出报警的现象的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种离子植入机旋转角度监控系统，以解决上述背景技术中提出的现有的离子植入机旋转角度监控中的ROPLAT旋转角度无法在线实时监控的难题，避免了由于没有实时检测导致的大批晶圆报废的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种离子植入机旋转角度监控系统，包括高真空腔体部分与大气部分，所述高真空腔体部分的下端设置有大气部分，所述高真空腔体部分与大气部分通过套接连接，所述大气部分的下端设置有原机台柔性电缆，所述原机台柔性电缆的右端设置有连接机台原控制器，所述连接机台原控制器的右端设置有新增传感器连线，所述新增传感器连线的上端设置有电机反馈控制线，所述电机反馈控制线的上端设置有控制接口，所述控制接口的上端设置有控制器，所述控制器的左端的外侧表端设置有功能选择开关，所述功能选择开关的右端设置有电源插座，所述电源插座的下端设置有通讯插头，所述控制器的右端设置有工业控制主机，所述控制器与工业控制主机通过电性连接，所述工业控制主机的下端设置有鼠标，所述鼠标与工业控制主机通过电性连接，所述工业控制主机的下端设置有键盘，所述工业控制主机的上端设置有显示器，所述显示器与工业控制主机通过电性连接。

优选的，所述显示器为十八点五英寸液晶屏，分辨率1366乘768，所述显示器的尺寸为宽度为四十四厘米并且高度为三十四厘米。

优选的，所述新增传感器连线共设置有两根，两根所述新增传感器连线分别呈对称设置在连接机台原控制器的右端，两根所述新增传感器连线的外部壳体采用PP环保材料制成的，并采用工业高柔拖链屏蔽信号线。

优选的，所述控制器为矩形体结构，所述控制器的尺寸为长度为二十六厘米、宽度为十五厘米并且高度为八厘米。

优选的，所述功能选择开关为拨扭圆柱体结构，所述功能选择开关的尺寸为最大直径为六毫米，所述功能选择开关与电源开关电性连接。

优选的，所述原机台柔性电缆得外部壳体的材料是采用PP环保材料制成的，所述原机台柔性电缆共设置有三组，三组所述原机台柔性电缆的截面直径为四十毫米。

优选的，所述键盘采用有线连接，所述键盘与工业控制主机通过电性连接，所述键盘与显示器通过电性连接。