[发明专利]有机发光显示基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号: | 201910120039.X | 申请日: | 2019-02-18 |
| 公开(公告)号: | CN109887962B | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
| 发明(设计)人: | 白清云 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵天月 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 发光 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种制作有机发光显示基板的方法,其特征在于,包括:
提供衬底,所述衬底上设置有像素界定层,所述像素界定层限定出多个子像素区域;
在所述衬底上方打印含有溶剂和第一阳极材料的墨水,打印速率为6-8mm/s,所述墨水的浓度为1.5-1.7mol/L,所述第一阳极材料包括铟锡混合物,形成所述墨水的步骤包括:将所述铟锡混合物制备为铟锡盐溶液,加热至100-130℃,并通入过氧化氢气体;
对打印的所述墨水进行干燥处理,所述干燥处理的烘干温度为140-180℃,以便基于所述像素界定层,形成第一阳极层,所述衬底靠近所述像素界定层一侧的表面具有倾斜角,所述第一阳极层远离所述衬底一侧表面的第一倾斜角不大于2°,进一步包括:
对经过所述干燥处理的所述墨水进行退火处理,退火温度为200-300℃。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一阳极材料包括铟锡混合物、导电聚合物的至少之一。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包括:
在所述第一阳极层远离所述衬底的一侧形成反射层;
在所述反射层远离所述第一阳极层的一侧形成第二阳极层。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第二阳极层是通过化学气相沉积法以及等离子溅射法的至少之一形成的。
5.一种有机发光显示基板,其特征在于,所述有机发光显示基板是由权利要求1-4任一项所述的方法所制作的。
6.一种通过权利要求1~4中任一项所述的方法制作得到的有机发光显示基板,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括像素界定层,所述像素界定层包括多个子像素区域,所述衬底靠近所述像素界定层一侧的表面具有倾斜角;
第一阳极层,所述第一阳极层位于多个所述子像素区域中,所述第一阳极层远离所述衬底一侧的表面的第一倾斜角不大于2°。
7.根据权利要求6所述的有机发光显示基板,其特征在于,所述衬底上方不同位置处的所述第一阳极层的厚度不同,所述第一阳极层的厚度偏差不大于2%。
8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求6或7所述的有机发光显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





