[发明专利]一种试卷批改方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种试卷批改方法，其特征在于，所述方法包括：

获得标准试卷的第一图像，其中，所述标准试卷中的作答区域填写有标准答案；

通过预先训练的识别模型识别所述第一图像中各个标准答案的区域以及各个标准答案的字符，并使用标注框标注出各个标准答案所在的作答区域；

确定每个作答区域对应的标注框的位置信息；

获得待批改试卷的第二图像，其中，所述待批改试卷中的作答区域填写有待批改答案；

根据所述第一图像的每个作答区域对应的标注框的位置信息，确定所述第二图像中与该作答区域对应的标注框的位置相匹配的作答区域，并对所确定的作答区域进行标注框标注，在确定所述第二图像中与该作答区域对应的标注框的位置相匹配的作答区域时，允许两个作答区域的相对位置在预设的误差范围内；

通过所述预先训练的识别模型，识别所述第二图像的各个标注框内待批改答案的字符；

将所述第一图像中每一作答区域对应的标注框内标准答案的字符与所述第二图像中相对应的作答区域对应的标注框内待批改答案的字符进行比较，完成对所述待批改试卷的批改；

其中，所述确定每个作答区域对应的标注框的位置信息，包括：

对所述第一图像建立第一二维坐标系，确定每个作答区域对应的标注框在所述第一二维坐标系中的位置信息；

所述根据所述第一图像的每个作答区域对应的标注框的位置信息，确定所述第二图像中与该作答区域对应的标注框的位置相匹配的作答区域，包括：

对所述第二图像建立第二二维坐标系，针对所述第一图像的每个作答区域对应的标注框，确定所述第二图像中的、在所述第二二维坐标系中的位置信息与该作答区域对应的标注框在所述第一二维坐标系中的位置信息相匹配的作答区域；

其中，所述第二二维坐标系与所述待批改试卷之间的对应关系与所述第一二维坐标系与所述标准试卷之间的对应关系相同。

2.如权利要求1所述的试卷批改方法，其特征在于，标注框在所述第一二维坐标系中的位置信息包括：标注框的中心点坐标、标注框的高度和长度。

3.如权利要求1所述的试卷批改方法，其特征在于，所述确定每个作答区域对应的标注框的位置信息，包括：

识别所述第一图像中所述标准试卷的各个题目所在区域，并进行标注框标注；

确定每个作答区域对应的标注框在相应题目对应的标注框内的相对位置；

所述根据所述第一图像的每个作答区域对应的标注框的位置信息，确定所述第二图像中与该作答区域对应的标注框的位置相匹配的作答区域，包括：

识别所述第二图像中所述待批改试卷的各个题目所在区域，并进行标注框标注；

针对所述第一图像的每个作答区域对应的标注框，确定所述第二图像中与该作答区域对应的标注框的位置相匹配的作答区域，其中，所确定的作答区域在所述待批改试卷的相应题目对应的标注框内的相对位置与该作答区域对应的标注框在所述标准试卷的相应题目对应的标注框内的相对位置相匹配。

4.如权利要求1所述的试卷批改方法，其特征在于，所述使用标注框标注出各个标准答案所在的作答区域，包括：

采用预先训练的标注模型，将各个标准答案所在的作答区域用标注框标注出来。