[发明专利]一种显示面板及其制备方法、电子装置有效
申请号: | 201910079910.6 | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN111490176B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 尹雪兵 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 电子 装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
基板;
设置在所述基板上的发光层,其包括阳极层、设置在所述阳极层上的阴极层以及位于所述阳极层与所述阴极层之间的发光器件层;
其中,所述显示面板具有对应于光学元件的透光区,所述阴极层包括对应于所述透光区的第一部分,所述第一部分包括透明层,所述透明层的透光率大于90%,所述显示面板还具有显示区,所述显示区绕所述透光区设置,所述阴极层还包括对应于所述显示区的第二部分,所述第二部分包括第二金属氧化层,所述第二金属氧化层占所述第二部分的质量百分比小于0.1%。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述透明层包括第一金属氧化层或/和石墨烯层。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属氧化层的制成材料为氧化镁、氧化银、ITO、AZO以及IZO中的一种或多种。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属氧化层占所述第一部分的质量百分比大于或等于60%。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一部分还包括与所述第一金属氧化层叠层设置的第一金属导电层,所述第一金属导电层位于所述第一金属氧化层之上或之下。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属氧化层中的金属的材料和所述第一金属导电层的材料至少部分相同。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属导电层的制成材料为镱、钙、镁以及银中的一种或多种。
8.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属氧化层的厚度为5~10纳米。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述透明层包括第一金属氧化层,所述第一金属氧化层的厚度与所述第一部分的厚度相同。
10.根据权利要求2至9中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第一部分的透光率大于所述第二部分的透光率。
11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述第二金属氧化层占所述第二部分的质量百分比比所述第一金属氧化层占所述第一部分的质量百分比小。
12.一种电子装置,其特征在于,包括光学元件以及如权利要求1至11中任一项所述的显示面板。
13.根据权利要求12所述的电子装置,其特征在于,所述光学元件位于所述基板远离发光层的一侧。
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