[发明专利]调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备

说明书

提供了调节器和包括该调节器的化学机械抛光(CMP)设备。所述化学机械抛光设备(CMP)的调节器包括：调节部件，对抛光垫进行抛光；臂，使调节部件旋转；以及柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。

于2018年5月28日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2018-0060299号且名称为“调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备”的韩国专利申请通过引用而全部包含于此。

技术领域

示例实施例涉及一种调节器和一种包括该调节器的化学机械抛光设备。更具体地，示例实施例涉及一种被构造为对抛光垫进行抛光的调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备。

背景技术

通常，可以使用化学机械抛光(CMP)设备来使半导体基底上的层平坦化。CMP设备可以包括：CMP单元，用于使用抛光垫来对所述层进行抛光；以及调节单元，用于使用调节盘来对所述抛光垫进行剖光。为了使抛光垫向调节单元倾斜，调节单元可以包括柔性连接单元。

发明内容

根据示例实施例，可以提供一种CMP设备的调节器。调节器可以包括：调节部件，对抛光垫进行抛光；臂，使调节部件旋转；以及柔性连接器，使调节部件与臂连接，柔性连接器是可移动的以使调节部件关于臂相对移动。

根据示例实施例，可以提供一种CMP设备的调节器。调节器可以包括调节单元、臂单元、柔性连接单元和传感器单元。调节单元可以被构造为对抛光垫进行抛光。臂单元可以被构造为使调节单元旋转。柔性连接单元可以连接在调节单元与臂单元之间，以使调节单元关于臂单元相对移动。柔性连接单元可以在臂单元与调节单元之间形成气囊。传感器单元可以被构造为测量调节单元关于臂单元的倾斜角度。

根据示例实施例，可以提供一种CMP设备。CMP设备可以包括多个压板、CMP单元和调节器。压板可以被构造为容纳抛光垫。CMP单元可以布置在压板之上，以使用抛光垫对基底进行抛光。调节器可以包括调节单元、臂单元和柔性连接单元。调节单元可以被构造为抛光抛光垫。臂单元可以被构造为使调节单元旋转。柔性连接单元可以连接在调节单元与臂单元之间，以使调节单元关于臂单元相对移动。

附图说明

通过参照附图详细描述示例性实施例，特征对于本领域技术人员而言将变得明显，在附图中：

图1示出了根据示例实施例的调节器的剖视图；

图2示出了图1中的调节器的调节单元和柔性连接单元的内部结构的放大透视图；

图3示出了图2中的柔性连接单元的透视图；

图4示出了图3中的柔性连接单元的内部结构的透视图；

图5示出了图1中的调节器的操作的剖视图；

图6示出了根据示例实施例的调节器的剖视图；

图7示出了图6中的调节器的调节单元和柔性连接单元的内部结构的放大透视图；

图8示出了图7中的柔性连接单元的透视图；

图9示出了图8中的柔性连接单元的内部结构的透视图；

图10示出了图6中的调节器的操作的剖视图；

图11示出了根据示例实施例的调节器的剖视图；

图12示出了图11中的调节器的调节单元和柔性连接单元的内部结构的放大透视图；

图13示出了图12中的柔性连接单元的透视图；

图14示出了图13中的柔性连接单元的内部结构的透视图；

图15示出了图11中的调节器的操作的剖视图；

图16示出了根据示例实施例的调节器的剖视图；