[发明专利]光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法有效
申请号: | 201910040243.0 | 申请日: | 2019-01-16 |
公开(公告)号: | CN109581815B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 罗文瑞 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20;G02F1/13 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光阻涂布 装置 及其 制备 图案 化光阻层 方法 | ||
本申请提供一种光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法,其包括光源、光罩、感光机构、处理机构和涂布机构;光罩设置在光源的出光侧,用于接受光源的光照以形成光图案,光图案投射至感光机构;感光机构设置在所述光罩的出光侧,用于将光图案的光信号转换为电信号,并将电信号发送至处理机构;处理机构用于将电信号转换为控制信号,并将控制信号发送至涂布机构;涂布机构用于根据所述控制信号,进行光阻材料的涂布,以形成图案化的光阻层,光阻层的图案与所述光图案一致。本申请将现有技术中的涂布光阻和曝光制程进行了结合,并取消了显影的步骤,进而精简了工艺步骤,提高了效率。
技术领域
本申请涉及一种显示制程技术,特别涉及一种光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法。
背景技术
在传统的液晶面板制程工艺中,需要涂布机台“涂布光阻”、曝光机台“曝光”和显影液“显影”三个步骤来定义图形。
其中定义图形的制程相对而言较长,而且在显影的步骤中,会出现显影液残留的问题,导致图形化定义不佳。
发明内容
本申请实施例提供一种光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法,以解决现有的光阻图形化制程较长,制备效率较低的技术问题。
本申请实施例提供一种光阻涂布装置,其包括:
光源;
光罩,设置在所述光源的出光侧,所述光罩上设置有镂空图案,用于接受所述光源的光线以使光线穿过所述镂空图案形成光图案,所述光图案投射至感光机构;
所述感光机构,设置在所述光罩的出光侧,用于将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号,并将所述电信号或数字信号发送至处理机构;
所述处理机构,电连接于所述感光机构,用于将所述电信号或数字信号转换为控制信号,并将所述控制信号发送至涂布机构;以及
所述涂布机构,电连接于所述处理机构,用于根据所述控制信号,进行光阻材料的涂布,以形成图案化的光阻层,所述光阻层的图案与所述光图案一致。
在本申请的光阻涂布装置中,所述感光机构包括用于将光信号转换为电信号或数字信号的感光元件,所述感光元件呈阵列式排布且设置于所述光罩的出光侧。
在本申请的光阻涂布装置中,所述感光元件为CCD或CMOS。
在本申请的光阻涂布装置中,所述涂布机构包括机构本体和多个喷嘴,所述喷嘴呈矩阵式排布且设置在所述机构本体的一侧;
所述控制信号用于控制相应所述喷嘴的打开和闭合。
在本申请的光阻涂布装置中,所述涂布机构包括机构本体和喷嘴,所述喷嘴可移动的设置在所述机构本体的一侧;
所述控制信号用于控制所述喷嘴进行移动。
在本申请的光阻涂布装置中,所述感光元件和所述喷嘴一一对应,所述感光元件设置在所述机构本体的另一侧。
本申请还涉及一种光阻涂布装置制备图案化光阻层的方法,所述光阻涂布装置包括光源、设置在所述光源出光侧的光罩、设置在所述光罩出光侧的感光机构、电连接于所述感光结构的处理机构和电连接于所述处理机构的涂布机构,所述方法包括:
开启光源,所述光源将光线投射至所述光罩,光线透过所述光罩的镂空图案形成光图案,并将所述光图案投射至所述感光机构;
所述感光机构将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号,并将所述电信号和所述数字信号发送至所述处理机构;
所述处理机构将所述电信号或数字信号转换为控制信号,并将所述控制信号发送至涂布机构;
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