[发明专利]光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法

权利要求书

1.一种光阻涂布装置，其特征在于，包括：

光源；

光罩，设置在所述光源的出光侧，所述光罩上设置有镂空图案，用于接受所述光源的光线以使光线穿过所述镂空图案形成光图案，所述光图案投射至感光机构；

所述感光机构，设置在所述光罩的出光侧，用于将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号，并将所述电信号或数字信号发送至处理机构，所述感光机构包括用于将光信号转换为电信号或数字信号的感光元件，所述感光元件呈阵列式排布且设置于所述光罩的出光侧；

所述处理机构，电连接于所述感光机构，用于将所述电信号或数字信号转换为控制信号，并将所述控制信号发送至涂布机构；以及

所述涂布机构，电连接于所述处理机构，用于根据所述控制信号，进行光阻材料的涂布，以形成图案化的光阻层，所述光阻层的图案与所述镂空图案一致。

2.根据权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述感光元件为CCD或CMOS。

3.根据权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述涂布机构包括机构本体和多个喷嘴，所述喷嘴呈矩阵式排布且设置在所述机构本体的一侧；

所述控制信号用于控制相应所述喷嘴的打开和闭合。

4.根据权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述涂布机构包括机构本体和喷嘴，所述喷嘴可移动的设置在所述机构本体的一侧；

所述控制信号用于控制所述喷嘴进行移动。

5.根据权利要求3所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述感光元件和所述喷嘴一一对应，所述感光元件设置在所述机构本体的另一侧。

6.一种光阻涂布装置制备图案化光阻层的方法，其特征在于，所述光阻涂布装置包括光源、设置在所述光源出光侧的光罩、设置在所述光罩出光侧的感光机构、电连接于所述感光结构的处理机构和电连接于所述处理机构的涂布机构，其中，所述感光机构包括阵列式排布的感光元件，所述方法包括：

开启光源，所述光源将光线投射至所述光罩，光线透过所述光罩的镂空图案形成光图案并将所述光图案投射至所述感光机构；

所述感光机构将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号，并将所述电信号和所述数字信号发送至所述处理机构；

所述处理机构将所述电信号或数字信号转换为控制信号，并将所述控制信号发送至涂布机构；

所述涂布机构根据所述控制信号，进行光阻材料的涂布，以形成图案化的光阻层，其中所述光阻层的图案与所述镂空图案一致；

其中，所述感光机构将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号，并将所述电信号和所述数字信号发送至所述处理机构的步骤包括：

被所述光图案覆盖的所述感光元件将所述光图案的光信号转换为电信号或数字信号，并将所述电信号和所述数字信号发送至所述处理机构。

7.根据权利要求6的光阻涂布装置制备图案化光阻层的方法，其特征在于，所述处理机构将所述电信号或数字信号转换为控制信号，并将所述控制信号发送至所述涂布机构，包括：

所述处理机构将每一个所述感光元件发出的电信号或数字信号均转换为打开信号，并将所述打开信号发送给所述涂布机构。

8.根据权利要求7的光阻涂布装置制备图案化光阻层的方法，其特征在于，所述涂布机构包括呈矩阵式排布的喷嘴，所述感光元件和所述喷嘴一一对应；

所述涂布机构根据所述控制信号，进行光阻材料的涂布，以形成图案化的光阻层，包括：

所述涂布机构根据每一所述打开信号打开相应的所述喷嘴，进行光阻材料的涂布，以形成图案化的光阻层。

9.根据权利要求6的光阻涂布装置制备图案化光阻层的方法，其特征在于，所述光阻层的厚度通过所述感光元件单位时间内转化的光量进行调节。