[发明专利]具有dV/dt可控性的功率半导体器件在审

专利信息
申请号: 201910015203.0 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN110021657A 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: C.莱恩德茨;M.比纳;C.P.桑多 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈晓;刘春元
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 负载端子 功率半导体器件 半导体主体 电连接 第一导电类型 导电类型 功率单元 可控性 漂移区 源极区 绝缘体 传导负载电流 垂直方向延伸 发射极区 横向相邻 控制端子 控制负载 沟道区 耦合到 电极 配置 绝缘 隔离
【权利要求书】:

1.一种具有IGBT配置的功率半导体器件(1),其中所述功率半导体器件(1)包括:

- 半导体主体(10),所述半导体主体(10)被耦合到所述功率半导体器件(1)的第一负载端子(11)和第二负载端子(12),并且被配置成在所述端子(11、12)之间传导负载电流,并且包括第一导电类型的漂移区(100);

- 用于控制负载电流的控制端子(13);

- 与第一负载端子(11)电连接的第一导电类型的源极区(101),以及与第一负载端子(11)电连接并且使源极区(101)与漂移区(100)隔离的第二导电类型的沟道区(102);

- 电连接到第二负载端子(12)的第二导电类型的发射极区(109);

- 至少一个功率单元(1-1),每个功率单元(1-1)包括:

- 彼此横向相邻布置的至少三个沟槽(14、15),其中所述沟槽(14、15)中的每个沿着垂直方向(Z)延伸到半导体主体(10)中并且包括使相应电极(141、151)与半导体主体(10)绝缘的绝缘体(142、152),其中所述至少三个沟槽(14、15)包括至少一个控制沟槽(14),其电极(141)电耦合到控制端子(13),以及源极沟槽(15),其电极(151)被电耦合到第一负载端子(11);

- 用于传导负载电流的至少一部分的有源台面(18),所述有源台面(18)至少通过所述至少一个控制沟槽(14)之一横向限制并且至少包括源极区(101)和沟道区(102)中的每一个的相应区段;以及

- 通过源极沟槽(15)和所述至少一个控制沟槽(14)之一横向限制的辅助台面(19),所述辅助台面(19)包括第一半导体部分(191)和第二半导体部分(192),二者都具有第二导电类型,其中所述辅助台面(19)借助于所述第一半导体部分(191)而被电连接到第一负载端子(11),并且其中所述第二半导体部分(192)被布置在所述第一半导体部分(191)以下同时沿着垂直方向(Z)从其在空间上移位。

2.根据权利要求1所述的功率半导体器件(1),其中所述辅助台面(19)的第一半导体部分(191)是沟道区(102)的区段。

3.根据权利要求1或2所述的功率半导体器件(1),其中辅助台面(19)包括第一导电类型的第一阻挡区(1071),其展现为漂移区(100)的掺杂剂浓度的至少两倍的掺杂剂浓度。

4.根据权利要求3所述的功率半导体器件(1),其中所述第一阻挡区(1071)使第一半导体部分(191)和第二半导体部分(192)彼此分离。

5.根据前述权利要求之一所述的功率半导体器件(1),其中有源台面(18)包括第一导电类型的第二阻挡区(1072),其展现为漂移区(100)的掺杂剂浓度的至少两倍的掺杂剂浓度,其中所述第二阻挡区(1072)使沟道区区段(102)与漂移区(100)分离。

6.根据权利要求5所述的功率半导体器件(1),其中所述第二阻挡区(1072)沿着垂直方向(Z)至少延伸到有源台面(18)的最深的十分之一部分中。

7.根据权利要求3或4以及权利要求5或6之一所述的功率半导体器件(1),其中第一阻挡区(1071)的掺杂剂浓度在第二阻挡区(1072)的掺杂剂浓度的90%至130%的范围内。

8.根据前述权利要求5至7之一所述的功率半导体器件(1),其中沟道区区段(102)和第二阻挡区(1072)之间的过渡在有源台面(18)内的第二水平处形成第二pn结(1021),并且其中第一半导体部分(191)沿着延伸方向(Z)延伸直到第二水平的70%至110%。

9.根据前述权利要求之一所述的功率半导体器件(1),其中所述辅助台面(19)排他地借助于第一半导体部分(191)而被电连接到第一负载端子(11),和/或其中所述辅助台面(19)排他地借助于第二半导体部分(192)而被耦合到漂移区(100)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技奥地利有限公司,未经英飞凌科技奥地利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910015203.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top