[发明专利]具有dV/dt可控性的功率半导体器件在审
申请号: | 201910015203.0 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN110021657A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | C.莱恩德茨;M.比纳;C.P.桑多 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技奥地利有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陈晓;刘春元 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负载端子 功率半导体器件 半导体主体 电连接 第一导电类型 导电类型 功率单元 可控性 漂移区 源极区 绝缘体 传导负载电流 垂直方向延伸 发射极区 横向相邻 控制端子 控制负载 沟道区 耦合到 电极 配置 绝缘 隔离 | ||
1.一种具有IGBT配置的功率半导体器件(1),其中所述功率半导体器件(1)包括:
- 半导体主体(10),所述半导体主体(10)被耦合到所述功率半导体器件(1)的第一负载端子(11)和第二负载端子(12),并且被配置成在所述端子(11、12)之间传导负载电流,并且包括第一导电类型的漂移区(100);
- 用于控制负载电流的控制端子(13);
- 与第一负载端子(11)电连接的第一导电类型的源极区(101),以及与第一负载端子(11)电连接并且使源极区(101)与漂移区(100)隔离的第二导电类型的沟道区(102);
- 电连接到第二负载端子(12)的第二导电类型的发射极区(109);
- 至少一个功率单元(1-1),每个功率单元(1-1)包括:
- 彼此横向相邻布置的至少三个沟槽(14、15),其中所述沟槽(14、15)中的每个沿着垂直方向(Z)延伸到半导体主体(10)中并且包括使相应电极(141、151)与半导体主体(10)绝缘的绝缘体(142、152),其中所述至少三个沟槽(14、15)包括至少一个控制沟槽(14),其电极(141)电耦合到控制端子(13),以及源极沟槽(15),其电极(151)被电耦合到第一负载端子(11);
- 用于传导负载电流的至少一部分的有源台面(18),所述有源台面(18)至少通过所述至少一个控制沟槽(14)之一横向限制并且至少包括源极区(101)和沟道区(102)中的每一个的相应区段;以及
- 通过源极沟槽(15)和所述至少一个控制沟槽(14)之一横向限制的辅助台面(19),所述辅助台面(19)包括第一半导体部分(191)和第二半导体部分(192),二者都具有第二导电类型,其中所述辅助台面(19)借助于所述第一半导体部分(191)而被电连接到第一负载端子(11),并且其中所述第二半导体部分(192)被布置在所述第一半导体部分(191)以下同时沿着垂直方向(Z)从其在空间上移位。
2.根据权利要求1所述的功率半导体器件(1),其中所述辅助台面(19)的第一半导体部分(191)是沟道区(102)的区段。
3.根据权利要求1或2所述的功率半导体器件(1),其中辅助台面(19)包括第一导电类型的第一阻挡区(1071),其展现为漂移区(100)的掺杂剂浓度的至少两倍的掺杂剂浓度。
4.根据权利要求3所述的功率半导体器件(1),其中所述第一阻挡区(1071)使第一半导体部分(191)和第二半导体部分(192)彼此分离。
5.根据前述权利要求之一所述的功率半导体器件(1),其中有源台面(18)包括第一导电类型的第二阻挡区(1072),其展现为漂移区(100)的掺杂剂浓度的至少两倍的掺杂剂浓度,其中所述第二阻挡区(1072)使沟道区区段(102)与漂移区(100)分离。
6.根据权利要求5所述的功率半导体器件(1),其中所述第二阻挡区(1072)沿着垂直方向(Z)至少延伸到有源台面(18)的最深的十分之一部分中。
7.根据权利要求3或4以及权利要求5或6之一所述的功率半导体器件(1),其中第一阻挡区(1071)的掺杂剂浓度在第二阻挡区(1072)的掺杂剂浓度的90%至130%的范围内。
8.根据前述权利要求5至7之一所述的功率半导体器件(1),其中沟道区区段(102)和第二阻挡区(1072)之间的过渡在有源台面(18)内的第二水平处形成第二pn结(1021),并且其中第一半导体部分(191)沿着延伸方向(Z)延伸直到第二水平的70%至110%。
9.根据前述权利要求之一所述的功率半导体器件(1),其中所述辅助台面(19)排他地借助于第一半导体部分(191)而被电连接到第一负载端子(11),和/或其中所述辅助台面(19)排他地借助于第二半导体部分(192)而被耦合到漂移区(100)。
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