[发明专利]用于测量沉积速率的测量组件及其方法

权利要求书

1.一种用于测量真空沉积腔室中沉积材料的沉积速率的测量组件(100)，所述测量组件包括：

一个或多个透明基板，所述一个或多个透明基板提供沉积表面和参考表面，所述沉积表面经构造以在所述真空沉积装置的真空腔室中接收沉积材料的至少一部分；

光学测量组件，所述光学测量组件包括：

电磁辐射的源；

第一检测器，所述第一检测器用于所述电磁辐射的第一部分并提供沉积速率信号；以及

第二检测器，所述第二检测器用于所述电磁辐射的第二部分并提供参考信号。

2.根据权利要求1所述的测量组件，所述测量组件还包括：

用于所述测量组件的壳体，所述壳体提供用于所述源的源隔室、用于所述第一检测器的沉积隔室、以及用于所述第二检测器的参考隔室。

3.根据权利要求2所述的测量组件，其中所述一个或多个透明基板将所述源隔室与所述沉积隔室和所述参考隔室分开。

4.一种用于测量真空沉积腔室中的沉积速率的测量组件(100)，所述测量组件包括：

第一透明基板，所述第一透明基板具有主表面，所述主表面相对于所述沉积材料的材料方向成第一角度设置；以及

光学测量组件，所述光学测量组件包括：

位于所述第一透明基板的第一侧处的电磁辐射的源；以及

第一检测器，所述第一检测器用于所述电磁辐射的、在所述第一透明基板的与所述第一侧相对的第二侧处的至少一部分，其中所述电磁辐射的辐射方向被提供为从所述源穿过所述第一透明基板至所述第一检测器；

其中所述辐射方向相对于所述材料方向倾斜。

5.根据权利要求4所述的测量组件(100)，其中所述第一角度是约10°至约90°。

6.根据权利要求4至5中任一项所述的测量组件，其中所述辐射方向相对于所述第一透明基板的所述主表面成第二角度，所述第二角度不同于所述第一角度并且是约20°至约90°。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的测量组件，所述测量组件还包括：

加热器，所述加热器特别是位于所述透明基板处或所述透明基板中。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的测量组件，所述测量组件还包括：

第二透明基板；以及

第二检测器，其中电磁辐射被提供为从所述源穿过所述第二透明基板至所述第二检测器。

9.根据权利要求4至8中任一项所述的测量组件(100)，其中具有所述源、所述第一透明基板和所述第一检测器的第一光学布置相对于具有所述源、所述第二透明基板和所述第二检测器的第二光学布置对称地布置。

10.根据权利要求4至9中任一项所述的测量组件(100)，所述测量组件还包括：

用于所述第一检测器的壳体，所述壳体具有限定所述材料方向的开口。

11.根据权利要求4至10中任一项所述的测量组件(100)，其中所述壳体提供具有用于沉积测量的所述第一检测器的第一隔室和具有用于参考测量的所述第二检测器的第二隔室。

12.根据权利要求4至11中任一项所述的测量组件(100)，其中所述第一透明基板和所述第二透明基板中的至少一者是玻璃板。

13.一种用于蒸发材料的沉积源(500)，所述沉积源包括：

蒸发坩埚(510)，其中所述蒸发坩埚经构造以蒸发材料；

分配管(520)，所述分配管具有沿着所述分配管的长度设置以用于提供蒸发材料的一个或多个出口(522)，其中所述分配管(520)与所述蒸发坩埚(510)流体连通；以及

根据权利要求1至12中任一项所述的测量组件(100)。