[发明专利]大气压等离子体发生装置有效
申请号: | 201880096124.0 | 申请日: | 2018-08-02 |
公开(公告)号: | CN112543990B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 神藤高广 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
主分类号: | H01L21/3065 | 分类号: | H01L21/3065 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 大气压 等离子体 发生 装置 | ||
目的在于提供能够抑制NOx的产生的大气压等离子气体发生装置。大气压等离子体发生装置具备用于加热从产生等离子体的反应室喷出的等离子气体的加热器。控制装置基于由NOx传感器输出的信号控制加热器,以使NOx浓度为阈值以下。由此,能够将NOx的生成量限制为阈值以下。
技术领域
本发明涉及大气压等离子气体发生装置。
背景技术
以往,在等离子体处理中,由于温度条件影响处理品质,所以进行温度控制。例如,在专利文献1所记载的等离子体处理装置中,在真空容器内通过等离子体处理而蚀刻的晶片所载置的试料台的内部配置有温度传感器及加热器,以成为预定的温度的方式进行控制。
现有技术文献
专利文献1:日本特开2016-213359号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在大气压等离子体装置中,查明了在存在氧及氮的环境下产生了高温的等离子气体的情况下,会产生NOx。NOx对环境等有害,成为法律限制的对象,因此需要抑制产生。
本申请鉴于上述课题而提出,其目的在于提供能够抑制NOx的产生的大气压等离子气体发生装置。
用于解决课题的手段
本说明书公开一种大气压等离子体发生装置,具备:一对电极,通过放电而产生等离子体;反应室,在上述反应室中内置上述一对电极,具有供处理气体流入的流入口及供通过上述一对电极而将上述处理气体等离子体化后的等离子气体流出的流出口;及控制装置,控制从上述流出口流出的上述等离子气体的温度,以使NOx的产生量为阈值以下。
发明效果
根据本公开,能够提供能够抑制NOx的产生的大气压等离子气体发生装置。
附图说明
图1是示出安装于产业用机器人的大气压等离子体发生装置的概略结构的图。
图2是示出大气压等离子体发生装置的立体图。
图3是示出等离子气体喷出装置及加热气体供给装置的剖视图。
图4是示出大气压等离子体发生装置的控制系统的框图。
图5是示出发生源温度对NOx浓度及臭氧浓度的曲线图。
具体实施方式
如图1所示,大气压等离子体发生装置10具备:等离子体头11、主体部17、电力电缆40及气体配管80等。主体部17具备处理气体供给装置77及冷却气体供给装置102。大气压等离子体发生装置10从主体部17经由电力电缆40而向等离子体头11传送电力,经由气体配管80而供给处理气体,从等离子体头11照射等离子气体。另外,处理气体是使氧等活性气体和氮等惰性气体以任意的比例混合后的气体,等离子气体是氧等离子气体。等离子体头11安装于产业用机器人140的机械手臂141的前端。电力电缆40及气体配管80沿着机械手臂141安装。机械手臂141是使两个臂部145、145沿着一个方向连结的多关节机器人。产业用机器人140驱动机械手臂141而进行向工件台5支撑的工件W照射等离子气体的作业。
如图2所示,等离子体头11具有等离子气体喷出装置12及加热气体供给装置14。在以下的说明中,将等离子体头11的宽度方向称作X方向,将大气压等离子体发生装置10的进深方向称作Y方向,将与X方向和Y方向正交的方向也就是上下方向称作Z方向。
等离子气体喷出装置12由上部壳体19、下部壳体20、下部罩22、一对电极24、26(图3)、一对散热器27、28构成。上部壳体19和下部壳体20以使上部壳体19配置于下部壳体20之上的状态经由橡胶制的密封部件29而连结。并且,连结的状态下的上部壳体19和下部壳体20在X方向上的两侧面处由一对散热器27、28夹住。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造